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1. (WO2017175556) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SURFACE ET MASQUE, ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SURFACE

Pub. No.:    WO/2017/175556    International Application No.:    PCT/JP2017/010567
Publication Date: Fri Oct 13 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Fri Mar 17 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 1/38
G03F 7/20
Applicants: USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
ウシオ電機株式会社
Inventors: HIROSE, Kenichi
廣瀬 賢一
Title: PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SURFACE ET MASQUE, ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SURFACE
Abstract:
L'objet de la présente invention est de fournir un procédé de traitement de surface avec lequel il est possible d'effectuer, de manière efficace et à une résolution élevée, un traitement de surface utilisant une lumière UV sous vide sur un article à traiter, un masque 10a (10b) utilisé dans le procédé de traitement de surface, et un dispositif de traitement de surface. Selon la présente invention, lorsqu'un article à traiter est exposé à une lumière UV sous vide en présence d'oxygène à travers un masque dans lequel une partie de protection contre une lumière à motifs (15) est formée sur la surface d'un substrat de transmission de lumière (11), moyennant quoi une région à modification de surface spécifique est formée sur la surface de l'article à traiter, un masque dans lequel l'épaisseur de la région formant une partie translucide (12) sur le substrat de transmission de lumière est inférieure à celle de la région dans laquelle la partie de protection contre la lumière est formée, ou un masque dans lequel la différence entre le niveau de surface de la partie de protection contre la lumière et le niveau de surface d'une partie translucide adjacente à la partie de protection contre la lumière est supérieure ou égale à 1 µm est utilisé.