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1. (WO2017174632) DEL IMPRIMÉE PAR MICRO-TRANSFERT ET STRUCTURE DE FILTRE COLORÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/174632    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/058066
Date de publication : 12.10.2017 Date de dépôt international : 05.04.2017
CIB :
H01L 33/00 (2010.01), H01L 23/00 (2006.01), H01L 25/075 (2006.01), H01L 33/50 (2010.01)
Déposants : X-CELEPRINT LIMITED [IE/IE]; Lee Maltings Dyke Parade Cork (IE)
Inventeurs : COK, Ronald S.; (IE).
BOWER, Christopher Andrew; (IE)
Mandataire : GRAHAM WATT & CO LLP; St Botolph's House 7-9 St Botolph's Road Sevenoaks Kent TN13 3AJ (GB)
Données relatives à la priorité :
62/318,512 05.04.2016 US
15/461,871 17.03.2017 US
Titre (EN) MICRO-TRANSFER PRINTED LED AND COLOR FILTER STRUCTURE
(FR) DEL IMPRIMÉE PAR MICRO-TRANSFERT ET STRUCTURE DE FILTRE COLORÉ
Abrégé : front page image
(EN)A micro-transfer printed intermediate structure comprises an intermediate substrate and one or more pixel structures disposed on the intermediate substrate. Each pixel structure includes an LED, a color filter, and a fractured pixel tether physically attached to the pixel structure. A fractured intermediate tether is physically attached to the intermediate substrate. A method of making an intermediate structure source wafer comprises providing a source wafer having a patterned sacrificial layer including sacrificial portions separated by anchors, disposing an intermediate substrate over the patterned sacrificial layer, and disposing one or more pixel structures on the intermediate substrate entirely on or over each sacrificial portion. Each pixel structure includes an LED, a color filter, and a fractured pixel tether physically attached to the pixel structure to form an intermediate structure.
(FR)Selon l'invention, une structure intermédiaire imprimée par micro-transfert comprend un substrat intermédiaire et au moins une structure de pixel disposée sur le substrat intermédiaire. Chaque structure de pixel comprend une DEL, un filtre coloré et une attache de pixel fracturée, attachée physiquement à la structure de pixel. Une attache intermédiaire fracturée est attachée physiquement au substrat intermédiaire. Un procédé de fabrication d'une tranche source de structure intermédiaire consiste à fournir une tranche source ayant une couche sacrificielle à motifs comprenant des parties sacrificielles séparées par des ancres, à disposer un substrat intermédiaire sur la couche sacrificielle à motifs, et à disposer au moins une structure de pixel sur le substrat intermédiaire dans sa totalité ou sur chaque partie sacrificielle. Chaque structure de pixel comprend une DEL, un filtre coloré et une attache de pixel fracturée, attachée physiquement à la structure de pixel de façon à former une structure intermédiaire.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)