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1. (WO2017174597) ÉLÉMENT DE FILTRE D'ÉNERGIE POUR INSTALLATIONS D'IMPLANTATION IONIQUE DESTINÉES À ÊTRE UTILISÉES DANS LA PRODUCTION DE TRANCHES
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N° de publication : WO/2017/174597 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/058018
Date de publication : 12.10.2017 Date de dépôt international : 04.04.2017
CIB :
H01J 37/317 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30
Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
317
pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p.ex. implantation d'ions
Déposants :
MI2-FACTORY GMBH [DE/DE]; Moritz-von-Rohr-Str. 1a 07745 Jena, DE
Inventeurs :
KRIPPENDORF, Florian; DE
CSATO, Constantin; DE
Mandataire :
WÄCHTER, Jochen; Kroher Strobel Rechts- und Patentanwälte Partnerschaftsgesellschaft mbB Bavariaring 20 80336 München, DE
Données relatives à la priorité :
10 2016 106 119.004.04.2016DE
Titre (EN) ENERGY FILTER ELEMENT FOR ION IMPLANTATION SYSTEMS FOR THE USE IN THE PRODUCTION OF WAFERS
(FR) ÉLÉMENT DE FILTRE D'ÉNERGIE POUR INSTALLATIONS D'IMPLANTATION IONIQUE DESTINÉES À ÊTRE UTILISÉES DANS LA PRODUCTION DE TRANCHES
(DE) ENERGIEFILTERELEMENT FÜR IONENIMPLANTATIONSANLAGEN FÜR DEN EINSATZ IN DER PRODUKTION VON WAFERN
Abrégé :
(EN) The invention relates to an implantation device, an implantation system and a method. The implantation device comprises a filter frame and a filter held by the filter frame, wherein said filter is designed to be irradiated by an ion beam.
(FR) La présente invention concerne un dispositif d'implantation, une installation d'implantation et un procédé. Le dispositif d'implantation comprend un cadre de filtre et un filtre maintenu par ce cadre, lequel filtre est conçu pour être parcouru par un faisceau d'ions.
(DE) Beschrieben wird eine Implantationsvorrichtung, eine Implantationsanlage und ein Verfahren. Die Implantationsvorrichtung umfasst einen Filterrahmen und ein durch Filterrahmen gehaltenes Filter, das dazu ausgebildet ist, von einem Ionenstrahl durchstrahlt zu werden.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)