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1. (WO2017174476) COMPOSITION DE REMPLISSAGE D'ESPACE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF UTILISANT UN COMPOSÉ À FAIBLE POIDS MOLÉCULAIRE

Pub. No.:    WO/2017/174476    International Application No.:    PCT/EP2017/057799
Publication Date: Fri Oct 13 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Tue Apr 04 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 7/40
G03F 7/32
Applicants: AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.A.R.L.
Inventors: WANG, Xiaowei
NAGAHARA, Tatsuro
Title: COMPOSITION DE REMPLISSAGE D'ESPACE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF UTILISANT UN COMPOSÉ À FAIBLE POIDS MOLÉCULAIRE
Abstract:
L'invention concerne une composition de remplissage d'espace, qui peut réduire l'effondrement de motif, et un procédé de formation de motif utilisant la composition. À cet effet, l'invention concerne une composition de remplissage d'espace comprenant un composé de remplissage d'espace, un solvant organique et, si nécessaire, de l'eau, le composé de remplissage d'espace ayant une certaine structure et contenant des groupes hydroxyle, des groupes carboxyle ou des groupes amino de manière intramoléculaire. L'invention concerne un procédé de formation de motif utilisant un composé à faible poids moléculaire.