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1. (WO2017174423) COLLECTEUR EUV DESTINÉ À ÊTRE UTILISÉ DANS UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION EUV
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N° de publication : WO/2017/174423 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/057485
Date de publication : 12.10.2017 Date de dépôt international : 30.03.2017
CIB :
G02B 19/00 (2006.01) ,G02B 5/18 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 27/42 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
19
Condenseurs
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
18
Grilles de diffraction
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
27
Autres systèmes optiques; Autres appareils optiques
42
Optique de diffraction
Déposants :
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Inventeurs :
KIEREY, Holger; DE
ZELLNER, Johannes; DE
Mandataire :
RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB; Königstrasse 2 90402 Nürnberg, DE
Données relatives à la priorité :
10 2016 205 893.208.04.2016DE
Titre (EN) EUV COLLECTOR FOR USE IN AN EUV PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) COLLECTEUR EUV DESTINÉ À ÊTRE UTILISÉ DANS UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION EUV
Abrégé :
(EN) An EUV collector (24) serves for use in an EUV projection exposure apparatus. The collector (24) is embodied to guide EUV used light, which is emitted by a plasma source region. An overall impingement surface (34) of the collector (24) is embodied for impingement with radiation (3, 31) emitted by the plasma source region consisting of both the EUV light and pump laser light. A used light portion (35) of the overall impingement surface (34) is embodied to guide the EUV used light (3). An extraneous light portion (36) of the overall impingement surface (34) is embodied to be impinged upon by extraneous pump laser light radiation reflected from the plasma source (31), the wavelength of which differs from that of the used light (3). The used light portion (35) and the extraneous light portion (36) are not congruent. This results in an EUV collector, the collector efficiency of which is increased and the production costs of which are possibly reduced. The zone fro reflection of laser light is covered by a suitable diffractive grating structure.
(FR) La présente invention a trait à un collecteur EUV (24) qui est destiné à être utilisé dans un appareil d'exposition par projection EUV. Le collecteur (24) est conçu pour guider la lumière EUV utilisée, qui est émise par une région source de plasma. Une surface d'exposition globale (34) du collecteur (24) est prévue pour être exposée à un rayonnement (3, 31) émis par la région source de plasma. Une partie de lumière utilisée (35) de la surface d'exposition globale (34) est destinée à guider la lumière EUV utilisée (3). Une partie de lumière parasite (36) de ladite surface d'exposition globale (34) est conçue pour être exposée à un rayonnement lumineux parasite (31), la longueur d'onde de ce rayonnement différant de celle de la lumière utilisée (3). La partie de lumière utilisée (35) et la partie de lumière parasite (36) ne sont pas congruentes. Un collecteur EUV est ainsi obtenu, son rendement étant supérieur et ses coûts de fabrication pouvant être réduits. La zone de réflexion de la lumière laser est couverte d'une structure de réseau de diffraction adéquate.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)