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1. (WO2017173704) FILM DE BRILLANTAGE DE RÉSEAU DE FIL MÉTALLIQUE POUR RÉTROÉCLAIRAGE D'AFFICHAGE, ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2017/173704 N° de la demande internationale : PCT/CN2016/082307
Date de publication : 12.10.2017 Date de dépôt international : 17.05.2016
CIB :
G02B 5/30 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
30
Eléments polarisants
Déposants :
武汉华星光电技术有限公司 WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD [CN/CN]; 中国湖北省武汉市 东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 Building C5 No.666 Gaoxin Avenue, East Lake High-tech Development Zone Wuhan, Hubei 430070, CN
Inventeurs :
崔宏青 CUI, Hongqing; CN
查国伟 ZHA, Guowei; CN
Mandataire :
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) CHINA WISPRO INTELLECTUAL PROPERTY LLP.; 中国广东省深圳市 南山区高新区粤兴三道8号中国地质大学产学研基地中地大楼A806 Room A806 Zhongdi Building, China University of Geosciences Base, No.8 Yuexing 3rd Road, High-Tech Industrial Estate, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518057, CN
Données relatives à la priorité :
201610206984.805.04.2016CN
Titre (EN) METAL WIRE GRATING BRIGHTENING FILM FOR DISPLAY BACKLIGHTING, AND PREPARATION METHOD THEREFOR
(FR) FILM DE BRILLANTAGE DE RÉSEAU DE FIL MÉTALLIQUE POUR RÉTROÉCLAIRAGE D'AFFICHAGE, ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
(ZH) 显示背光用金属线栅增亮膜及其制备方法
Abrégé :
(EN) A metal wire grating brightening film for display backlighting, and a preparation method therefor, the method comprising: coating a photoresist layer on the surface of a substrate (S100); by means of a nano imprinting process, forming a nano-scale photoresist grating structure on the photoresist layer, and implementing curing processing of same (S110); and forming a metal thin film on the cured photoresist grating structure (S120). In the present method, the nano-scale photoresist grating structure is formed by means of a roll-to-roll nano imprinting process, and a metal thin film of different cross-section shapes is formed on the cured nano-scale photoresist grating structure, having the advantages of a simple preparation process and saving materials and costs.
(FR) La présente invention concerne un film de brillantage de réseau de fil métallique pour rétroéclairage d'affichage, et un procédé de préparation de celui-ci, le procédé comprenant : le revêtement d'une couche de résine photosensible sur la surface d'un substrat (S100); au moyen d'un processus de nano-impression, la formation d'une structure de réseau de résine photosensible nanométrique sur la couche de résine photosensible, et la conduite d'un traitement de durcissement de celle-ci (S110); et la formation d'un film mince métallique sur la structure de réseau de résine photosensible durcie (S120). Dans le présent procédé, la structure de réseau de résine photosensible nanométrique est formée au moyen d'un processus de nano-impression rouleau à rouleau, et un film mince métallique de différentes formes de section transversale est formé sur la structure de réseau de résine photosensible nanométrique durcie, présentant les avantages d'un processus de préparation simple et d'économie de matériaux et de coûts.
(ZH) 一种显示背光用金属线栅增亮膜及其制备方法,该方法包括:在基板表面涂覆光刻胶层(S100);通过纳米压印工艺在光刻胶层上形成纳米尺寸的光刻胶光栅结构,并进行固化处理(S110);在固化后的光刻胶光栅结构上形成金属薄膜(S120)。该方法通过卷对卷纳米压印工艺制备纳米尺寸的光刻胶光栅结构,然后在固化的光刻胶光栅结构上形成不同截面形状的金属薄膜,具有制备流程简单与节约材料和成本的优点。
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Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)