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1. (WO2017173685) SUBSTRAT MATRICIEL ET PROCÉDÉ DE FABRICATION

Pub. No.:    WO/2017/173685    International Application No.:    PCT/CN2016/080435
Publication Date: Fri Oct 13 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Fri Apr 29 01:59:59 CEST 2016
IPC: H01L 27/12
H01L 21/77
G02F 1/1368
Applicants: SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.
深圳市华星光电技术有限公司
Inventors: XIA, Hui
夏慧
HUANG, Tien-chun
黄添钧
Title: SUBSTRAT MATRICIEL ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abstract:
La présente invention concerne un substrat matriciel et un procédé de fabrication. Le substrat matriciel comporte: un substrat en verre; une électrode de grille; une première couche isolante; une couche de semi-conducteur; une couche de planarisation disposée sur la première couche isolante; une source et un drain; une couche d'électrodes de pixel, disposée sur la couche de planarisation et le drain; et une seconde couche isolante, disposée sur la couche de planarisation, la couche de semi-conducteur, et la source et le drain de celle-ci. La présente invention possède un effet bénéfique de prévention de formation de bulles au niveau des ouvertures et d'augmentation des rapports d'ouvertures. La couche de planarisation augmente davantage la distance depuis la source et le drain jusqu'à l'électrode de grille, de sorte que les propriétés antistatiques de celle-ci sont améliorées.