Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2017173129) SYSTÈME DE MÉTROLOGIE POUR MESURE DE DÉFORMATION DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2017/173129 N° de la demande internationale : PCT/US2017/025112
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 30.03.2017
CIB :
H01L 21/66 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66
Essai ou mesure durant la fabrication ou le traitement
Déposants :
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
VAEZ-IRAVANI, Mehdi; US
EGAN, Todd; US
BANNA, Samer; US
TANTIWONG, Kyle; US
Mandataire :
PATTERSON, B. Todd; US
STEVENS, Joseph J.; US
Données relatives à la priorité :
62/315,66230.03.2016US
Titre (EN) METROLOGY SYSTEM FOR SUBSTRATE DEFORMATION MEASUREMENT
(FR) SYSTÈME DE MÉTROLOGIE POUR MESURE DE DÉFORMATION DE SUBSTRAT
Abrégé :
(EN) Embodiments of the disclosure provide methods and system for inspecting and treating a substrate. In one embodiment, a method is provided including transmitting a first plurality of beams from a diffractive beam splitter to a first surface of a substrate to generate a reflection of a second plurality of beams, wherein the first plurality of beams are spaced apart from each other upon arriving at the first surface of the substrate; receiving the second plurality of beams on a recording surface of an optical device, wherein the second plurality of beams are spaced apart from each other upon arriving at the recording surface; measuring positional information of the second plurality of beams on the recording surface; comparing the positional information of the second plurality of beams to positional information stored in a memory; and storing a result of the comparison in the memory.
(FR) Selon des modes de réalisation, l'invention concerne des procédés et un système d'inspection et de traitement de substrat. Dans un mode de réalisation, l'invention concerne un procédé qui comprend la transmission d'une première pluralité de faisceaux depuis un diviseur de faisceau à diffraction jusqu'à une première surface d'un substrat afin de générer une réflexion d'une seconde pluralité de faisceaux, la première pluralité de faisceaux étant espacés les uns des autres lors de leur arrivée sur la première surface du substrat ; la réception de la seconde pluralité de faisceaux sur une surface d'enregistrement d'un dispositif optique, la seconde pluralité de faisceaux étant espacés les uns des autres lors de leur arrivée sur la surface d'enregistrement ; la mesure d'informations de position de la seconde pluralité de faisceaux sur la surface d'enregistrement ; la comparaison des informations de position de la seconde pluralité de faisceaux à des informations de position stockées dans une mémoire ; le stockage d'un résultat de la comparaison dans la mémoire.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)