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1. (WO2017173129) SYSTÈME DE MÉTROLOGIE POUR MESURE DE DÉFORMATION DE SUBSTRAT

Pub. No.:    WO/2017/173129    International Application No.:    PCT/US2017/025112
Publication Date: 5 oct. 2017 International Filing Date: 30 mars 2017
IPC: H01L 21/66
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC.
Inventors: VAEZ-IRAVANI, Mehdi
EGAN, Todd
BANNA, Samer
TANTIWONG, Kyle
Title: SYSTÈME DE MÉTROLOGIE POUR MESURE DE DÉFORMATION DE SUBSTRAT
Abstract:
Selon des modes de réalisation, l'invention concerne des procédés et un système d'inspection et de traitement de substrat. Dans un mode de réalisation, l'invention concerne un procédé qui comprend la transmission d'une première pluralité de faisceaux depuis un diviseur de faisceau à diffraction jusqu'à une première surface d'un substrat afin de générer une réflexion d'une seconde pluralité de faisceaux, la première pluralité de faisceaux étant espacés les uns des autres lors de leur arrivée sur la première surface du substrat ; la réception de la seconde pluralité de faisceaux sur une surface d'enregistrement d'un dispositif optique, la seconde pluralité de faisceaux étant espacés les uns des autres lors de leur arrivée sur la surface d'enregistrement ; la mesure d'informations de position de la seconde pluralité de faisceaux sur la surface d'enregistrement ; la comparaison des informations de position de la seconde pluralité de faisceaux à des informations de position stockées dans une mémoire ; le stockage d'un résultat de la comparaison dans la mémoire.