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1. (WO2017172880) DÉPÔTS OU COUCHES AMÉLIORÉS POUR MEMBRANES MICROPOREUSES, MEMBRANES AMÉLIORÉES, SÉPARATEURS DE PILE AU LITHIUM AMÉLIORÉS, PILES AMÉLIORÉES, PILES AU LITHIUM À TENSION ÉLEVÉE AMÉLIORÉES, ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS
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N° de publication :    WO/2017/172880    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/024697
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 29.03.2017
CIB :
H01M 2/16 (2006.01), H01M 2/14 (2006.01), H01G 11/52 (2013.01), H01M 10/052 (2010.01), H01M 6/14 (2006.01), C08J 9/36 (2006.01)
Déposants : CELGARD, LLC [US/US]; 13800 South Lakes Drive Charlotte, NC 28273 (US)
Inventeurs : SMITH, Ronnie, E.; (US).
CHEMELEWSKI, Katharine; (US).
WILLIAMS, Shante, P.; (US).
MA, Junqing; (US).
RAPLEY, James, M.; (US)
Mandataire : HAMMER, Robert, H.; (US).
FRIEDRICH, Balerie K.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/314,656 29.03.2016 US
Titre (EN) IMPROVED DEPOSITIONS OR LAYERS FOR MICROPOROUS MEMBRANES, IMPROVED MEMBRANES, IMPROVED LITHIUM BATTERY SEPARATORS, IMPROVED BATTERIES, IMPROVED HIGH VOLTAGE LITHIUM BATTERIES, AND RELATED METHODS
(FR) DÉPÔTS OU COUCHES AMÉLIORÉS POUR MEMBRANES MICROPOREUSES, MEMBRANES AMÉLIORÉES, SÉPARATEURS DE PILE AU LITHIUM AMÉLIORÉS, PILES AMÉLIORÉES, PILES AU LITHIUM À TENSION ÉLEVÉE AMÉLIORÉES, ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS
Abrégé : front page image
(EN)A microporous membrane or substrate for an electrochemical device having a layer of a metal and/or metal oxide on at least one side of a polymeric porous membrane, wherein said layer is applied using a deposition method or technique such as vapor deposition, and wherein said layer contains one or more phases of a reactive metal oxide.
(FR)L'invention concerne une membrane microporeuse ou un substrat microporeux pour un dispositif électrochimique comprenant une couche d'un métal et/ou d'un oxyde métallique sur au moins un côté d'une membrane poreuse polymère, ladite couche étant appliquée à l'aide d'un procédé ou d'une technique de dépôt tel qu'un dépôt en phase vapeur, et ladite couche contenant une ou plusieurs phases d'un oxyde métallique réactif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)