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1. (WO2017172631) SOURCE À LARGE BANDE DE PLASMA ENTRETENU PAR LASER À HAUTE LUMINOSITÉ

Pub. No.:    WO/2017/172631    International Application No.:    PCT/US2017/024339
Publication Date: Fri Oct 06 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Tue Mar 28 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01J 65/04
H01J 61/02
H01J 61/30
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION
Inventors: CHUANG, Yung-Ho Alex
LU, Xiaoxu
LIOU, Justin Dianhuan
FIELDEN, John
Title: SOURCE À LARGE BANDE DE PLASMA ENTRETENU PAR LASER À HAUTE LUMINOSITÉ
Abstract:
L'invention concerne une source de lumière à large bande entretenue par laser à haute luminosité comprenant une structure de confinement de gaz et un laser de pompage configuré pour générer un faisceau de pompage, incluant l'éclairage à une longueur d'onde au moins à proximité d'une ligne d'absorption faible d'un gaz neutre contenu dans la structure de confinement de gaz. La source de lumière à large bande comprend un ou plusieurs éléments optiques d'éclairage anamorphique configurés pour concentrer le faisceau de pompe en un étranglement de faisceau approximativement elliptique positionné dans ou à proximité du centre de la structure de confinement de gaz. La source de lumière à large bande comprend un ou plusieurs premiers éléments optiques de collecte configurés pour collecter un rayonnement à large bande émis par le plasma dans une direction sensiblement alignée avec un axe plus long de l'étranglement de faisceau elliptique.