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1. (WO2017172382) ÉLIMINATION DE COMPOSITIONS DE PRÉTRAITEMENT DE SUBSTRAT LORS D'UNE LITHOGRAPHIE PAR NANO-IMPRESSION

Pub. No.:    WO/2017/172382    International Application No.:    PCT/US2017/022917
Publication Date: Fri Oct 06 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Sat Mar 18 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 7/00
G03F 7/004
H01L 21/02
C08F 2/48
Applicants: CANON NANOTECHNOLOGIES, INC.
CANON KABUSHIKI KAISHA
Inventors: STACHOWIAK, Timothy Brian
LIU, Weijun
KHUSNATDINOV, Niyaz
YE, Zhengmao
ITO, Toshiki
Title: ÉLIMINATION DE COMPOSITIONS DE PRÉTRAITEMENT DE SUBSTRAT LORS D'UNE LITHOGRAPHIE PAR NANO-IMPRESSION
Abstract:
L'invention concerne un procédé de lithographie par nano-impression pour éliminer une composition de prétraitement non durcie d'un substrat de lithographie par nano-impression imprimé. Le procédé consiste à disposer une composition de prétraitement sur un substrat de lithographie par nano-impression pour former un revêtement de prétraitement et à disposer des parties discrètes d'une réserve d'impression sur le revêtement de prétraitement, chaque partie discrète de la réserve d'impression recouvrant une zone cible du substrat de lithographie par nano-impression. Un revêtement polymérisable composite est formé sur le substrat de lithographie par nano-impression lorsque chaque partie discrète de la réserve d'impression s'étale au-delà de sa zone cible, et le revêtement polymérisable composite est mis en contact avec un gabarit de lithographie par nano-impression. Le revêtement polymérisable composite est polymérisé pour produire une couche polymère composite et une partie non durcie du revêtement de prétraitement sur le substrat de lithographie par nano-impression, et la partie non durcie du revêtement de prétraitement est éliminée du substrat de lithographie par nano-impression.