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1. (WO2017171872) SUBSTRAT STRATIFIÉ POUR DISPOSITIFS MICROÉLECTRONIQUES

Pub. No.:    WO/2017/171872    International Application No.:    PCT/US2016/025723
Publication Date: Fri Oct 06 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Sat Apr 02 01:59:59 CEST 2016
IPC: H01L 29/78
H01L 21/336
Applicants: INTEL CORPORATION
Inventors: GLASS, Glenn A.
MURTHY, Anand S.
Title: SUBSTRAT STRATIFIÉ POUR DISPOSITIFS MICROÉLECTRONIQUES
Abstract:
La présente invention concerne des systèmes et des procédés se rapportant à un substrat stratifié. Un substrat stratifié peut comprendre un noyau comprenant du graphite. Le substrat stratifié peut également comprendre une couche de revêtement comprenant un matériau de revêtement qui entoure le noyau, le matériau de revêtement ayant un point de fusion qui est supérieur à un point de fusion du silicium.