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1. (WO2017171794) MASQUE PHOTOGRAPHIQUE OU RÉTICULE HAUTE RÉSOLUTION ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2017/171794 N° de la demande internationale : PCT/US2016/025269
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 31.03.2016
CIB :
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
[IPC code unknown for H01L 21/027][IPC code unknown for G03F 7/20]
Déposants :
INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
CHOI, Chang Ju; US
Mandataire :
BRASK, Justin, K.; US
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) HIGH RESOLUTION PHOTOMASK OR RETICLE AND ITS METHOD OF FABRICATION
(FR) MASQUE PHOTOGRAPHIQUE OU RÉTICULE HAUTE RÉSOLUTION ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abrégé :
(EN) Approaches for fabricating a lithographic mask are described. In an example, a lithographic mask for patterning semiconductor circuits includes a substrate. An in-die region is disposed on the substrate. The in-die region includes a patterned shifter material in direct contact with the substrate. The patterned shifter material includes features having sidewalls. A frame region is disposed on the substrate and surrounding the in-die region. The frame region includes an absorber layer in direct contact with the substrate.
(FR) L'invention concerne des approches de fabrication d'un masque lithographique. Dans un exemple, un masque lithographique pour former des motifs sur des circuits à semi-conducteurs comprend un substrat. Une région sur puce est disposée sur le substrat. La région sur puce comprend un matériau de décalage à motifs en contact direct avec le substrat. Le matériau de décalage à motifs comprend des éléments ayant des parois latérales. Une région de cadre est disposée sur le substrat et entoure la région sur puce. La région de cadre comprend une couche d'absorbeur en contact direct avec le substrat.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)