Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2017171181) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM DURCI FORMÉ À PARTIR DE CELLE-CI, ET DISPOSITIF DOTÉ D'UN FILM DURCI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2017/171181 N° de la demande internationale : PCT/KR2016/012809
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 08.11.2016
CIB :
G03F 7/004 (2006.01) ,C08L 83/06 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
83
Compositions contenant des composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant uniquement du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
04
Polysiloxanes
06
contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01
pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13
basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133
Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
1333
Dispositions relatives à la structure
1335
Association structurelle de dispositifs optiques, p.ex. de polariseurs, de réflecteurs, avec la cellule
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
27
Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
28
comprenant des composants qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux
32
avec des composants spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. panneaux d'affichage plats utilisant des diodes émettrices de lumière organiques
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
삼성에스디아이 주식회사 SAMSUNG SDI CO., LTD. [KR/KR]; 경기도 용인시 기흥구 공세로 150-20 150-20 Gongse-ro, Giheung-gu, Yongin-si, Gyeonggi-do 17084, KR
Inventeurs :
유홍정 YU, Hong Jeong; KR
김우한 KIM, Woo Han; KR
김태수 KIM, Taesoo; KR
박종희 PARK, Jonghee; KR
백윤희 BAEK, Yunhee; KR
백택진 BAEK, Taek-Jin; KR
이승은 LEE, Seungeun; KR
주영재 JOO, Youngjae; KR
Mandataire :
팬코리아특허법인 PANKOREA PATENT AND LAW FIRM; 서울시 강남구 논현로85길 70, 13층 13F, 70 Nonhyeon-ro 85-gil, Gangnam-gu, Seoul 06234, KR
Données relatives à la priorité :
10-2016-003857330.03.2016KR
Titre (EN) PHOTO-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM FORMED THEREFROM, AND ELEMENT HAVING CURED FILM
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM DURCI FORMÉ À PARTIR DE CELLE-CI, ET DISPOSITIF DOTÉ D'UN FILM DURCI
(KO) 감광성 수지 조성물, 그로부터 형성된 경화막, 및 경화막을 갖는 소자
Abrégé :
(EN) Provided is a photo-sensitive resin composition, cured film obtained by curing the composition, and an element comprising the cured film, the photo-sensitive resin composition comprising (A) a siloxane compound expressed by the chemical formula 1 below, (B) a quinone diazide compound, and (C) a solvent, and having acid value of 200 mgKOH/g or lower. [Chemical formula 1] (R1R2R3SiO1 /2)M1(R4R5SiO1/2-Y1-SiO1/2R6R7)M2(R8R9SiO2/2)D1(R10SiO2/2-Y2-SiO2/2R11)D2(R12R13Si-Y3)D3(R14SiO3/2)T1 (SiO3/2-Y4-SiO3/2)T2(SiO4/2)Q1 where R1-R14, Y1-Y4, M1, M2, D1, D2, D3, T1, T2, and Q1 are as defined in the detailed description of the invention.
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible, un film durci obtenu par le durcissement de la composition, et un élément comprenant le film durci, la composition de résine photosensible comprenant (A) un composé siloxane exprimé par la formule chimique 1 ci-dessous, (B) un composé diazide de quinone, et (C) un solvant, et ayant une valeur acide inférieure ou égale à 200 mgKOH/g. [Formule chimique 1] (R1R2R3SiO1 /2)M1(R4R5SiO1/2-Y1-SiO1/2R6R7)M2(R8R9SiO2/2)D1(R10SiO2/2-Y2-SiO2/2R11)D2(R12R13Si-Y3)D3(R14SiO3/2)T1 (SiO3/2-Y4-SiO3/2)T2(SiO4/2)Q1 dans laquelle R1-R14, Y1-Y4, M1, M2, D1, D2, D3, T1, T2 et Q1 sont tels que définis dans la description détaillée de l'invention.
(KO) (A) 하기 화학식 1로 표시되는 실록산 화합물, (B) 퀴논디아지드 화합물, 및 (C) 용제를 포함하고, 산가가 200 mgKOH/g 이하인 감광성 수지 조성물, 상기 조성물을 경화시켜 얻어지는 경화막, 및 상기 경화막을 포함하는 소자를 제공한다: [화학식 1] (R1R2R3SiO1 /2)M1(R4R5SiO1/2-Y1-SiO1/2R6R7)M2(R8R9SiO2/2)D1(R10SiO2/2-Y2-SiO2/2R11)D2(R12R13Si-Y3)D3(R14SiO3/2)T1 (SiO3/2-Y4-SiO3/2)T2(SiO4/2)Q1 상기 화학식 1에서, R1 내지 R14, Y1 내지 Y4, M1, M2, D1, D2, D3, T1, T2, 및 Q1에 대한 정의는 발명의 상세한 설명에 기재된 것과 같다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)