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1. (WO2017171117) DISPOSITIF DE MESURE DE DOSE D'EXPOSITION AUX RAYONS X POUR SUJET ET PROCÉDÉ DE GESTION DE DOSE D'EXPOSITION
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N° de publication :    WO/2017/171117    N° de la demande internationale :    PCT/KR2016/003240
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 30.03.2016
CIB :
G01T 1/167 (2006.01), G08B 21/18 (2006.01), G01T 1/164 (2006.01), G01N 23/04 (2006.01)
Déposants : JS TECHWIN CO., LTD. [KR/KR]; (Industry-Academic Cooperation Foundation center of YNC) 102ho 170, Hyeonchung-ro, Nam-gu Daegu 42415 (KR).
SUH, Jun Suhk [KR/KR]; (KR).
PARK, Hyeun Suk [KR/KR]; (KR)
Inventeurs : SUH, Jun Suhk; (KR).
PARK, Hyeun Suk; (KR)
Mandataire : HWANG, Jung Hyun; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2016-0037595 29.03.2016 KR
Titre (EN) X-RAY EXPOSURE DOSE MEASURING DEVICE FOR SUBJECT AND METHOD FOR MANAGING EXPOSURE DOSE
(FR) DISPOSITIF DE MESURE DE DOSE D'EXPOSITION AUX RAYONS X POUR SUJET ET PROCÉDÉ DE GESTION DE DOSE D'EXPOSITION
(KO) 피검자의 X선 피폭량 측정장치 및 피폭량 관리방법
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to an X-ray exposure dose measuring device for a subject and a management method thereof, the X-ray exposure measuring device comprising: an X-ray generator (1); flash multiplication devices (10, 20), each being disposed adjacent to a detection unit (2), for detecting X-rays and outputting signals, wherein the detection unit detects an X-ray dose from the X-ray generator transmitted through the subject; a comparator (30) for filtering the signals outputted from the flash multiplication devices (10, 20) at a predetermined intensity or more; a processor (40) which counts pulses generated by the X-rays filtered by the comparator, accumulates the pulses as the X-ray dose, and subtracts the X-ray dose detected by the detector (2) from a total X-ray dose generated by the X-ray generator (1) to calculate the resultant X-ray dose as an X-ray exposure dose of the subject; and an exposure dose management unit (50) which receives the X-ray dose data calculated by the processor (40), cumulatively accumulates the individual X-ray dose of the subject for a predetermined period of time, and manages individually whether or not the X-ray dose exceeds a predetermined X-ray dose limit standard. As such, the X-ray exposure measuring device has the effects capable of precisely measuring the exposure dose when the subject is tested in various X-ray inspections. By cumulatively managing these X-ray exposure dose measurements, the present invention has an effect capable of calculating and managing an annually cumulative X-ray exposure dose and five-year cumulative exposure dose which an individual undergoes during various tests, thereby efficiently preventing the problems caused by an excessive exposure dose of the subject.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de mesure de dose d'exposition aux rayons X pour un sujet et un procédé de gestion associé, le dispositif de mesure d'exposition aux rayons X comprenant : un générateur de rayons X (1); des dispositifs de multiplication flash (10, 20), chacun étant disposé adjacent à une unité de détection (2), pour détecter des rayons X et délivrer en sortie des signaux, l'unité de détection détectant une dose de rayons X provenant du générateur de rayons X transmis à travers le sujet; un comparateur (30) pour filtrer les signaux délivrés en sortie par les dispositifs de multiplication flash (10, 20) à une intensité prédéterminée ou plus; un processeur (40) qui compte des impulsions générées par les rayons X filtrés par le comparateur, accumule les impulsions en tant que dose de rayons X, et soustrait la dose de rayons X détectée par le détecteur (2) d'une dose de rayons X totale générée par le générateur de rayons X (1) pour calculer la dose de rayons X résultante en tant que dose d'exposition aux rayons X du sujet; et une unité de gestion de dose d'exposition (50) qui reçoit les données de dose de rayons X calculées par le processeur (40), accumule de manière cumulative la dose de rayons X individuelle du sujet pendant une période de temps prédéterminée, et gère individuellement si la dose de rayons X dépasse ou non une norme de limite de dose de rayons X prédéterminée. Ainsi, le dispositif de mesure d'exposition aux rayons X présente les effets permettant de mesurer précisément la dose d'exposition lorsque le sujet est testé dans diverses inspections par rayons X. En gérant de manière cumulative ces mesures de dose d'exposition aux rayons X, la présente invention a un effet permettant de calculer et de gérer une dose d'exposition aux rayons X cumulative annuellement et une dose d'exposition cumulative sur cinq ans qu'un individu subit pendant divers tests, ce qui permet d'empêcher efficacement les problèmes provoqués par une dose d'exposition excessive du sujet.
(KO)본 발명은 피검자의 X선 피폭량 측정장치 및 그 관리방법에 관한 것으로, X선 발생기(1)와, 그 X선 발생기에서 피검자에게 조사되는 X선이 피검자를 투과한 X선량을 검출하는 검출부(2)에 각각 인접배치되어 X선을 검출하여 신호를 출력하는 섬광증배장치(10, 20)들과, 상기 섬광증배장치(10, 20)에서 출력된 신호를 미리 설정된 세기 이상의 것으로 필터링하는 비교기(30), 상기 비교기(30)에서 필터링된 X선에 의한 펄스를 카운트하고 X선량으로서 적산하고, 상기 X선 발생기(1)에서 발생된 총 X선량에 대하여 검출부(2)에 검출된 X선량을 차감하여 피검자의 X선 피폭량으로 산출하는 프로세서(40), 상기 프로세서(40)에서 산출된 X선 피폭량 데이타를 전송받아 피검자 개인별 X선 피폭량을 미리 설정된 기간동안 누적 합산하여 미리 설정한 X선 피폭량 허용 기준치를 초과하는지 여부를 개인별로 관리하는 피폭량 관리부(50)를 포함하여 구성됨으로써, 피검자가 각종 X선 검사를 받을 때의 피폭량을 정확히 측정할 수 있는 효과가 있고, 이러한 X선 피폭량 측정값을 누적 관리하여 개개인의 각종 검사시 받게 되는 연간 X선 누적 피폭량 및 5년간의 누적 피폭량을 산출하여 관리하도록 함으로써 피검자의 과도한 방사선 피폭량에 의한 문제발생을 효율적으로 방지할 수 있는 효과가 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)