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1. (WO2017170983) DISPOSITIF DE FABRICATION DE GAZ DE TYPE ADSORPTION MODULÉE EN PRESSION
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N° de publication : WO/2017/170983 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/013532
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 31.03.2017
CIB :
B01D 53/047 (2006.01) ,C10L 3/10 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
D
SÉPARATION
53
Séparation de gaz ou de vapeurs; Récupération de vapeurs de solvants volatils dans les gaz; Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols
02
par adsorption, p.ex. chromatographie préparatoire en phase gazeuse
04
avec adsorbants fixes
047
Adsorption à pression alternée
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
10
INDUSTRIES DU PÉTROLE, DU GAZ OU DU COKE; GAZ DE SYNTHÈSE CONTENANT DE L'OXYDE DE CARBONE; COMBUSTIBLES; LUBRIFIANTS; TOURBE
L
COMBUSTIBLES NON PRÉVUS AILLEURS; GAZ NATUREL; GAZ NATUREL DE SYNTHÈSE OBTENU PAR DES PROCÉDÉS NON PRÉVUS DANS LES SOUS-CLASSES C10G OU C10K134; GAZ DE PÉTROLE LIQUÉFIÉ; UTILISATION D’ADDITIFS DANS LES COMBUSTIBLES OU LES FEUX; ALLUME-FEUX
3
Combustibles gazeux; Gaz naturel; Gaz naturel de synthèse obtenu par des procédés non prévus dans les sous-classes C10G, C10K119; Gaz de pétrole liquéfié
06
Gaz naturel; Gaz naturel de synthèse obtenu par des procédés non prévus dans C10G, C10K3/02 ou C10K3/04144
10
Post-traitement de gaz naturel ou de gaz naturel de synthèse
Déposants :
大阪瓦斯株式会社 OSAKA GAS CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市中央区平野町四丁目1番2号 1-2, Hiranomachi 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410046, JP
Inventeurs :
川嶋祥太 KAWASHIMA Shota; JP
小谷保 KOTANI Tamotsu; JP
Mandataire :
特許業務法人R&C R&C IP LAW FIRM; 大阪府大阪市北区中之島三丁目3番3号 3-3, Nakanoshima 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005, JP
Données relatives à la priorité :
2016-07235031.03.2016JP
Titre (EN) PRESSURE SWING ADSORPTION TYPE GAS MANUFACTURING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FABRICATION DE GAZ DE TYPE ADSORPTION MODULÉE EN PRESSION
(JA) 圧力変動吸着式ガス製造装置
Abrégé :
(EN) Provided is a pressure swing adsorption type gas manufacturing device wherein when the concentration of a gas to be purified in a raw material gas varies, the recovery rate of the gas to be purified can be improved for each concentration variation. In each of a plurality of adsorption towers 1, an operation control unit sequentially performs, by differing the phases, an operation cycle that includes an adsorption step of discharging a gas to be purified through a product gas discharge channel 5 by adsorbing a miscellaneous gas from a raw material gas G supplied through a raw material gas supply channel 3, and a desorption step of discharging the miscellaneous gas through an off-gas discharge channel 4. The operation control unit is configured so as to adjust, on the basis of detection information from a raw material gas concentration detection unit SG that detects the concentration of the gas to be purified in the raw material gas G, a pressure adjustment unit 10 that adjusts the supply pressure of the raw material gas in order to adjust the supply pressure of the raw material gas by which the raw material gas G is supplied to the adsorption tower 1 to a target pressure determined in accordance with the concentration of the gas to be purified in the raw material gas.
(FR) L'invention concerne un dispositif de fabrication de gaz de type adsorption modulée en pression. Lorsque la concentration d'un gaz à purifier dans un gaz de matière première varie, le taux de récupération du gaz à purifier peut être amélioré pour chaque variation de concentration. Dans chacune d'une pluralité de tours d'adsorption 1, une unité de commande de fonctionnement réalise séquentiellement, en variant les phases, un cycle de fonctionnement qui comprend une étape d'adsorption consistant à évacuer un gaz à purifier à travers un canal d'évacuation de gaz de produit 5 par adsorption d'un gaz divers à partir d'un gaz de matière première G fourni à travers un canal d'alimentation en gaz de matière première 3, et une étape de désorption consistant à évacuer le gaz divers à travers un canal d'évacuation de gaz d'échappement 4. L'unité de commande de fonctionnement est configurée pour régler, sur la base d'informations de détection provenant d'une unité de détection de concentration de gaz de matière première SG qui détecte la concentration du gaz à purifier dans le gaz de matière première G, une unité de réglage de pression 10 qui règle la pression d'alimentation du gaz de matière première afin de régler la pression d'alimentation du gaz de matière première par laquelle le gaz de matière première G est fourni à la tour d'adsorption 1 à une pression cible déterminée selon la concentration du gaz à purifier dans le gaz de matière première.
(JA) 原料ガスの精製対象ガスの濃度が変化する場合において、変化した濃度の夫々について、精製対象ガスの回収率を向上できる圧力変動吸着式ガス製造装置を提供する。 複数の吸着塔1の夫々について、原料ガス供給路3を通して供給される原料ガスGから雑ガスを吸着して製品ガス排出路5を通して精製対象ガスを排出する吸着工程、及び、オフガス排出路4を通して雑ガスを排出する脱着工程を含む運転サイクルを、位相を異ならせて順次行う運転制御部が、原料ガスGの精製対象ガスの濃度を検出する原料ガス濃度検出部SGの検出情報に基づいて、原料ガスGを吸着塔1に供給する原料ガス供給圧を原料ガスの精製対象ガスの濃度に応じて定めた目標圧力に調整すべく、原料ガス供給圧を調整する圧力調整部10を調整するように構成されている。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)