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1. (WO2017170750) AGENT DE REVÊTEMENT POUR LA FORMATION DE FILM D’OXYDE MÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ POUR LA PRODUCTION D'UNE BASE PORTANT UN FILM D’OXYDE MÉTALLIQUE
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N° de publication : WO/2017/170750 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/013029
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 29.03.2017
CIB :
C23C 26/00 (2006.01) ,C01B 13/14 (2006.01) ,C23C 18/18 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
26
Revêtements non prévus par les groupes C23C2/-C23C24/91
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
B
ÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
13
Oxygène; Ozone; Oxydes ou hydroxydes en général
14
Méthodes de préparation des oxydes ou hydroxydes en général
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
18
Revêtement chimique par décomposition soit de composés liquides, soit de solutions des composés constituant le revêtement, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement; Dépôt par contact
16
par réduction ou par substitution, p.ex. dépôt sans courant électrique
18
Pré-traitement du matériau à revêtir
Déposants :
東京応化工業株式会社 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012, JP
株式会社JCU JCU CORPORATION [JP/JP]; 東京都台東区東上野4丁目8番1号 TIXTOWER UENO 16階 TIXTOWER UENO 16th floor, 8-1, Higashiueno 4-chome, Taito-ku, Tokyo 1100015, JP
Inventeurs :
三隅 浩一 MISUMI, Koichi; JP
コルドニエ クリストファー CORDONIER, Christopher; JP
Mandataire :
正林 真之 SHOBAYASHI, Masayuki; JP
Données relatives à la priorité :
2016-06880030.03.2016JP
Titre (EN) COATING AGENT FOR FORMING METAL OXIDE FILM AND METHOD FOR PRODUCING BASE HAVING METAL OXIDE FILM
(FR) AGENT DE REVÊTEMENT POUR LA FORMATION DE FILM D’OXYDE MÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ POUR LA PRODUCTION D'UNE BASE PORTANT UN FILM D’OXYDE MÉTALLIQUE
(JA) 金属酸化物膜形成用塗布剤及び金属酸化物膜を有する基体の製造方法
Abrégé :
(EN) To provide: a coating agent for forming a metal oxide film, which contains an organic solvent that is different from N, N-dimethyl acetamide (DMA) or N-methyl pyrrolidone (NMP), and which has excellent conformal coating properties; and a method for producing a base having a metal oxide film. A coating agent for forming a metal oxide film, which contains a solvent and a metal, and wherein the solvent contains a compound (A) represented by formula (1). (In formula (1), each of R1 and R2 independently represents an alkyl group having 1-3 carbon atoms; and R3 represents a group represented by formula (1-1) or formula (1-2). In formula (1-1), R4 represents a hydrogen atom or a hydroxyl group; and each of R5 and R6 independently represents an alkyl group having 1-3 carbon atoms. In formula (1-2), each of R7 and R8 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1-3 carbon atoms.)
(FR) L’invention a pour objet : un agent de revêtement pour la formation d’un film d’oxyde métallique, qui contient un solvant organique qui est différent du N, N-diméthylacétamide (DMA) ou de la N-méthylpyrrolidone (NMP) et qui a d’excellentes propriétés de revêtement conforme ; et un procédé pour la production d’une base portant un film d’oxyde métallique. L’agent de revêtement pour la formation d’un film d’oxyde métallique contient un solvant et un métal, le solvant contenant un composé (A) représenté par la formule (1). (dans la formule (1), chacun de R1 et R2 représente indépendamment un groupe alkyle ayant 1-3 atomes de carbone ; et R3 représente un groupe représenté par la formule (1-1) ou la formule (1-2). Dans la formule (1-1), R4 représente un atome d’hydrogène ou un groupe hydroxyle ; et chacun de R5 et R6 représente indépendamment un groupe alkyle ayant 1 à 3 atomes de carbone. Dans la formule (1-2), chacun de R7 et R8 représente indépendamment un atome d’hydrogène ou un groupe alkyle ayant 1 à 3 atomes de carbone.)
(JA) N,N-ジメチルアセトアミド(DMA)やN-メチルピロリドン(NMP)とは異なる有機溶剤を含有し、コンフォーマルな塗布性に優れた、金属酸化物膜形成用塗布剤及び金属酸化物膜を有する基体の製造方法を提供すること。 溶剤と、金属と、を含有し、溶剤が、下記の式(1)で表される化合物(A)を含有する、金属酸化物膜形成用塗布剤。(式(1)中、R及びRは、それぞれ独立に炭素原子数1~3のアルキル基であり、Rは下式(1-1)又は下式(1-2):で表される基である。式(1-1)中、Rは、水素原子又は水酸基であり、R及びRは、それぞれ独立に炭素原子数1~3のアルキル基である。式(1-2)中、R及びRは、それぞれ独立に水素原子、又は炭素原子数1~3のアルキル基である。)
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)