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1. (WO2017170595) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE, LIQUIDE DE NETTOYAGE ET DISPOSITIF DE NETTOYAGE
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N° de publication : WO/2017/170595 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/012732
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 28.03.2017
CIB :
H01L 21/304 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04
les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18
les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du quatrième groupe de la Classification Périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30
Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
302
pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p.ex. gravure, polissage, découpage
304
Traitement mécanique, p.ex. meulage, polissage, coupe
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
Déposants :
株式会社トクヤマ TOKUYAMA CORPORATION [JP/JP]; 山口県周南市御影町1番1号 1-1, Mikage-cho, Shunan-shi, Yamaguchi 7458648, JP
Inventeurs :
松井 新吾 MATSUI, Shingo; JP
Mandataire :
山本 典輝 YAMAMOTO, Noriaki; JP
山下 昭彦 YAMASHITA, Akihiko; JP
岸本 達人 KISHIMOTO, Tatsuhito; JP
Données relatives à la priorité :
2016-06448828.03.2016JP
2016-16043118.08.2016JP
Titre (EN) CLEANING METHOD, CLEANING LIQUID, AND CLEANING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE, LIQUIDE DE NETTOYAGE ET DISPOSITIF DE NETTOYAGE
(JA) 洗浄方法および洗浄液、ならびに洗浄装置
Abrégé :
(EN) A method for cleaning a body to be cleaned comprises: a step (a) of causing a cleaning agent to become attached and held on a surface of a face to be cleaned of a body to be cleaned, the cleaning agent containing hydrogen peroxide, a quaternary ammonium hydroxide, and water and not containing ozone or a metal ion; and a step (b) of irradiating the cleaning liquid attached and held on the surface of the face to be cleaned with ultraviolet radiation having a wavelength of not less than 200 nm and not more than 250 nm from an ultraviolet radiation light source. In step (b), the irradiation time t (unit: seconds) of ultraviolet radiation and/or the emission output P (unit: mW) of the ultraviolet radiation light source are controlled so that the accumulated amount of irradiation I (unit: mJ/cm2) of ultraviolet radiation with which the cleaning liquid being held on the surface of the face to be cleaned is irradiated within the irradiation time becomes a prescribed predetermined accumulated amount of irradiation I0 or more.
(FR) L'invention concerne un procédé de nettoyage d'un corps à nettoyer comprenant : une étape (a) consistant à amener un agent de nettoyage à être fixé et maintenu sur une surface d'une face à nettoyer d'un corps à nettoyer, l'agent de nettoyage contenant du peroxyde d'hydrogène, un hydroxyde d'ammonium quaternaire et de l'eau et ne contenant pas d'ozone ni d'ion métallique ; et une étape (b) consistant à exposer le liquide de nettoyage fixé et maintenu sur la surface de la face à nettoyer à un rayonnement ultraviolet ayant une longueur d'onde supérieure ou égale à 200 nm et inférieure ou égale à 250 nm provenant d'une source de lumière ultraviolette. À l'étape (b), le temps d'exposition t (unité : secondes) au rayonnement ultraviolet et/ou la puissance d'émission P (unité : mW) de la source de lumière ultraviolette sont commandés de manière à ce que la dose de rayonnement cumulée I (unité : mJ/cm2) du rayonnement ultraviolet auquel le liquide de nettoyage maintenu sur la surface de la face à nettoyer est exposé pendant le temps d'exposition devienne supérieure ou égale à une dose de rayonnement cumulée prédéterminée prescrite I0.
(JA) (a)過酸化水素、第四級アンモニウム水酸化物、及び水を含んでなり、オゾン及び金属イオンを含まない洗浄剤を被洗浄体の被洗浄面の表面に付着および保持させる工程と、(b)被洗浄面の表面に付着および保持された洗浄液に紫外線光源から200nm以上250nm以下の波長を有する紫外線を照射する工程と、を含み、工程(b)において、紫外線の照射時間:t(単位:秒)及び/又は紫外線光源の発光出力:P(単位:mW)を制御して、照射時間内に被洗浄面の表面に保持される洗浄液に対して照射される紫外線の積算照射量I(単位:mJ/cm)が予め定めた所定の積算照射量I以上となるようにする、被洗浄体の洗浄方法。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)