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1. (WO2017170556) ÉBAUCHE DE VERRE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ÉBAUCHE DE VERRE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT DE VERRE DE DISQUE MAGNÉTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/170556    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/012649
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 28.03.2017
CIB :
C03B 11/00 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01)
Déposants : HOYA CORPORATION [JP/JP]; 6-10-1 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1608347 (JP)
Inventeurs : ISONO, Hideki; (JP).
TANINO, Hidekazu; (JP).
HANADA, Katsuhiko; (JP)
Mandataire : GLOBAL IP TOKYO; CARMEL II, 8-3-30, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-069364 30.03.2016 JP
Titre (EN) GLASS BLANK, METHOD FOR PRODUCING GLASS BLANK, AND METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATE OF MAGNETIC DISC
(FR) ÉBAUCHE DE VERRE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ÉBAUCHE DE VERRE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT DE VERRE DE DISQUE MAGNÉTIQUE
(JA) ガラスブランク、ガラスブランクの製造方法、及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This disc-like glass blank used for producing a glass substrate of a magnetic disc has a thickness at a center and a perimeter thereof that is greater than the thickness at an intermediate portion in a radial direction, and when the difference between the maximum blank thickness and the minimum blank thickness between both principle surfaces of the glass blank is defined as D and the length of a line segment on a principle surface connecting a position where the perimeter has the maximum blank thickness and the center position of the glass blank is defined as R, the difference between the thickness at a position located away from the center position on the line segment by a distance of 0.9R and the maximum blank thickness at the perimeter is greater than 0.2D.
(FR)L'invention concerne une ébauche de verre de type disque utilisée pour produire un substrat de verre d'un disque magnétique, présentant une épaisseur au niveau d'un centre et d'un périmètre correspondant qui est supérieure à l'épaisseur au niveau d'une partie intermédiaire dans une direction radiale et, lorsque la différence entre l'épaisseur d'ébauche maximale et l'épaisseur d'ébauche minimale entre les deux surfaces principales de l'ébauche de verre est définie comme D et la longueur d'un segment de droite sur une surface principale reliant une position où le périmètre présente l'épaisseur d'ébauche maximale et la position centrale de l'ébauche de verre est définie comme R, la différence entre l'épaisseur en une position située à une distance de 0,9R de la position centrale sur le segment de droite et l'épaisseur maximale de l'ébauche au niveau du périmètre est supérieure à 0,2D.
(JA)磁気ディスク用ガラス基板を製造するための円板状のガラスブランクの中央部および外周部は、半径方向の中間部よりも厚く、ガラスブランクの両主表面間の最大板厚と最小板厚との差をDとし、外周部の最大板厚となる位置と前記ガラスブランクの中心位置とを結ぶ主表面上の線分の長さをRとするとき、線分上の中心位置から0.9Rの距離となる位置における板厚と外周部の最大板厚との板厚差は、0.2Dよりも大きい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)