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1. (WO2017170536) OUTIL DE COUPE REVÊTU
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N° de publication : WO/2017/170536 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/012615
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 28.03.2017
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 10.10.2017
CIB :
B23C 5/16 (2006.01) ,B23B 27/14 (2006.01) ,C23C 14/06 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
23
MACHINES-OUTILS; TRAVAIL DES MÉTAUX NON PRÉVU AILLEURS
C
FRAISAGE
5
Outils de fraisage
16
caractérisés par des particularités physiques autres que la forme
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
23
MACHINES-OUTILS; TRAVAIL DES MÉTAUX NON PRÉVU AILLEURS
B
TOURNAGE; PERÇAGE
27
Outils pour machines à tourner ou à aléser; Outils de type similaire en général; Accessoires de ces outils
14
Outils de coupe sur lesquels les taillants ou éléments tranchants sont en matériaux particulier
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
06
caractérisé par le matériau de revêtement
Déposants :
三菱日立ツール株式会社 MITSUBISHI HITACHI TOOL ENGINEERING, LTD. [JP/JP]; 東京都墨田区両国四丁目31番11号 4-31-11, Ryogoku, Sumida-ku, Tokyo 1300026, JP
日立金属株式会社 HITACHI METALS, LTD. [JP/JP]; 東京都港区港南一丁目2番70号 2-70, Konan 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1088224, JP
エリコン・サーフェス・ソリューションズ・アーゲー,プフェッフィコン OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, PFAFFIKON [CH/CH]; 8808 プフェッフィコン、クラーシェトラッセ、120 Churerstrasse 120, Pfaffikon 8808, CH
Inventeurs :
佐々木 智也 SASAKI Tomoya; JP
小関 秀峰 KOSEKI Shuho; JP
森下 佳奈 MORISHITA Kana; JP
アブスアイリキ サーレ ABUSUILIK Saleh; JP
井上 謙一 INOUE Kenichi; JP
クラポフ デニス KURAPOV Denis; CH
カルス ボルフガング KALSS Wolfgang; AT
Mandataire :
志賀 正武 SHIGA Masatake; JP
寺本 光生 TERAMOTO Mitsuo; JP
松沼 泰史 MATSUNUMA Yasushi; JP
細川 文広 HOSOKAWA Fumihiro; JP
大浪 一徳 ONAMI Kazunori; JP
Données relatives à la priorité :
2016-06739330.03.2016JP
Titre (EN) COATED CUTTING TOOL
(FR) OUTIL DE COUPE REVÊTU
(JA) 被覆切削工具
Abrégé :
(EN) A coated cutting tool which has a hard coating film on the surface of a cutting tool. The hard coating film is formed of a nitride wherein: the content ratio of titanium (Ti) with respect to the total amount of metal elements (including semimetal elements) is from 70% by atom to 95% by atom (inclusive); the content ratio of silicon (Si) with respect to the total amount of metal elements (including semimetal elements) is from 5% by atom to 30% by atom (inclusive); and the content ratio of argon (Ar) with respect to the total amount of metal elements (including semimetal elements) and non-metal elements is 0.1% by atom or less. The hard coating film has an NaCl type crystal structure, and has an average crystal grain size of from 5 nm to 30 nm (inclusive). With respect to the composition of every 20 nm of the hard coating film from the depth of 20 nm to the depth of 200 nm, the content ratio of nitrogen is 50.0% by atom or more when the total content ratio of metal elements (including semimetal elements), nitrogen, oxygen and carbon is taken as 100% by atom.
(FR) L'invention concerne un outil de coupe revêtu qui présente un film de revêtement dur sur la surface d'un outil de coupe. Le film de revêtement dur est formé d'un nitrure, dans lequel : le rapport de teneur en titane (Ti) par rapport à la quantité totale d'éléments métalliques (y compris des éléments semi-métalliques) est de 70 à 95 % en atome (inclus); le rapport de teneur en silicium (Si) par rapport à la quantité totale d'éléments métalliques (y compris des éléments semi-métalliques) est de 5 à 30 % en atome (inclus); le rapport de teneur en argon (Ar) par rapport à la quantité totale d'éléments métalliques (y compris des éléments semi-métalliques) et d'éléments non-métalliques est de 0,1 % en atome ou moins. Le film de revêtement dur présente une structure de cristal de type NaCl et possède une taille de grain de cristal moyenne de 5 nm à 30 nm (inclus). Par rapport à la composition de chaque 20 nm du film de revêtement dur allant d'une profondeur de 20 nm à une profondeur de 200 nm, le rapport de teneur en azote est de 50,0 % en atome ou plus lorsque le rapport de teneur total d'éléments métalliques (y compris des éléments semi-métalliques), d'azote, d'oxygène et de carbone est considéré comme étant 100 % en atome.
(JA) 工具の表面に硬質皮膜を有する被覆切削工具である。硬質皮膜は窒化物であり、金属(半金属を含む)元素の総量に対して、チタン(Ti)の含有比率が70原子%以上95原子%以下、シリコン(Si)の含有比率が5原子%以上30原子%以下であり、金属元素(半金属を含む)と非金属元素の総量に対して、アルゴン(Ar)の含有比率が0.1原子%以下である。硬質皮膜はNaCl型の結晶構造を有し、平均結晶粒径が5nm以上30nm以下である。硬質皮膜の深さ20nmから200nmまでの20nmごとの各組成が、金属(半金属を含む)元素、窒素、酸素、炭素の合計の含有比率を100原子%とした場合、窒素の含有比率が50.0原子%以上である。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)