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1. (WO2017170514) DISPOSITIF DE DESSIN DE MOTIF, PROCÉDÉ DE DESSIN DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
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N° de publication : WO/2017/170514 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/012584
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 28.03.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 26/10 (2006.01) ,H05K 3/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
26
Dispositifs ou systèmes optiques utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables pour commander l'intensité, la couleur, la phase, la polarisation ou la direction de la lumière, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation
08
pour commander la direction de la lumière
10
Systèmes de balayage
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
Déposants :
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventeurs :
鬼頭義昭 KITO Yoshiaki; JP
堀正和 HORI Masakazu; JP
林田洋祐 HAYASHIDA Yosuke; JP
加藤正紀 KATO Masaki; JP
Mandataire :
千葉剛宏 CHIBA Yoshihiro; JP
宮寺利幸 MIYADERA Toshiyuki; JP
千馬隆之 SENBA Takayuki; JP
大内秀治 OUCHI Hideharu; JP
仲宗根康晴 NAKASONE Yasuharu; JP
坂井志郎 SAKAI Shiro; JP
関口亨祐 SEKIGUCHI Kosuke; JP
Données relatives à la priorité :
2016-06745230.03.2016JP
Titre (EN) PATTERN DRAWING DEVICE, PATTERN DRAWING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE DESSIN DE MOTIF, PROCÉDÉ DE DESSIN DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) パターン描画装置、パターン描画方法、および、デバイス製造方法
Abrégé :
(EN) An exposure device (EX) that draws a pattern on a substrate (P) by shining a beam (LBn) from a light source device (LS) on the substrate (P) and scanning the beam (LBn) in a main scanning direction while varying the intensity of the beam (LBn) according to pattern information, comprising: a scanning unit (Un) having a beam scanning unit that includes a polygonal mirror (PM) whereby the beam (LBn) is oriented to scan the beam (LBn), and a light detector (DTn) for photoelectric detection of reflected light generated when the beam (LBn) is shined on the substrate (P); an electro-optical element (36) for controlling intensity modulation of the beam (LBn) according to the pattern information such that at least part of a second pattern (PT2) to be newly drawn is drawn on top of at least part of a first pattern (PT1) formed on the substrate (P); and a measurement unit (116) for measuring the relative positional relationship between the first pattern (PT1) and the second pattern (PT2) on the basis of a detection signal (PSn) output by the detector (DTn) while the second pattern (PT2) is being drawn on the substrate (P).
(FR) L'invention concerne un dispositif d'exposition (EX) qui dessine un motif sur un substrat (P) en projetant un faisceau (LBn) depuis un dispositif de source de lumière (LS) sur le substrat (P) et en balayant le faisceau (LBn) dans une direction de balayage principale tout en variant l'intensité du faisceau (LBn) selon des informations de motif, comprenant : une unité de balayage (Un) ayant une unité de balayage de faisceau qui comprend un miroir polygonal (PM), le faisceau (LBn) étant orienté de façon à balayer le faisceau (LBn), et un détecteur de lumière (DTn) pour la détection photoélectrique de lumière réfléchie générée lorsque le faisceau (LBn) est projeté sur le substrat (P) ; un élément électro-optique (36) pour commander la modulation d'intensité du faisceau (LBn) selon les informations de motif de telle sorte qu'au moins une partie d'un second motif (PT2) à dessiner de nouveau est dessinée sur le dessus d'au moins une partie d'un premier motif (PT1) formé sur le substrat (P) ; et une unité de mesure (116) pour mesurer la relation de position relative entre le premier motif (PT1) et le second motif (PT2), sur la base d'un signal de détection (PSn) émis par le détecteur (DTn) tandis que le second motif (PT2) est dessiné sur le substrat (P).
(JA) 光源装置(LS)からのビーム(LBn)をパターン情報に応じて強度変調させつつ、ビーム(LBn)を基板(P)上に投射して主走査方向に走査することで、基板(P)上にパターンを描画する露光装置(EX)は、ビーム(LBn)の走査のために、ビーム(LBn)を偏向するポリゴンミラー(PM)を含むビーム走査部と、ビーム(LBn)が基板(P)に投射されたときに発生する反射光を光電検出する光検出器(DTn)とを有する走査ユニット(Un)と、基板(P)上に形成された第1パターン(PT1)の少なくとも一部に、新たに描画すべき第2パターン(PT2)の少なくとも一部が重ねて描画されるように、パターン情報に応じてビーム(LBn)の強度変調を制御する電気光学素子(36)と、基板(P)上に第2パターン(PT2)が描画される間に、光検出器(DTn)から出力される検出信号(PSn)に基づいて、第1パターン(PT1)と第2パターン(PT2)との相対的な位置関係を計測する計測部(116)とを備える。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)