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1. (WO2017170484) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM ÉTIRABLE ET DISPOSITIF DE FABRICATION D'UN FILM ÉTIRABLE
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N° de publication : WO/2017/170484 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/012537
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 28.03.2017
CIB :
B29C 55/04 (2006.01) ,B29K 29/00 (2006.01) ,B29L 7/00 (2006.01) ,G02B 5/30 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
C
FAÇONNAGE OU ASSEMBLAGE DES MATIÈRES PLASTIQUES; FAÇONNAGE DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL; POST-TRAITEMENT DES PRODUITS FAÇONNÉS, p.ex. RÉPARATION
55
Façonnage par étirage, p.ex. étirage à travers une matrice; Appareils à cet effet
02
de plaques ou de feuilles
04
suivant un seul axe, p.ex. étirage oblique
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
K
SCHÉMA D'INDEXATION ASSOCIÉ AUX SOUS-CLASSES B29B, B29C OU B29D105
29
Utilisation de poly(alcool de vinyle), poly(éthers de vinyle), poly(aldéhydes de vinyle), poly(cétones de vinyle) ou poly(cétals de vinyle) comme matière de moulage
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
L
SCHÉMA D'INDEXATION ASSOCIÉ À LA SOUS-CLASSE B29C63
7
Objets plats, p.ex. pellicules ou feuilles
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
30
Eléments polarisants
Déposants :
住友化学株式会社 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 東京都中央区新川二丁目27番1号 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260, JP
Inventeurs :
古谷 勉 FURUYA, Tsutomu; JP
早川 登 HAYAKAWA, Noboru; JP
北河 佑介 KITAGAWA, Yusuke; JP
Mandataire :
中山 亨 NAKAYAMA, Tohru; JP
坂元 徹 SAKAMOTO, Toru; JP
Données relatives à la priorité :
2016-06805430.03.2016JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING STRETCH FILM, AND DEVICE FOR MANUFACTURING STRETCH FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM ÉTIRABLE ET DISPOSITIF DE FABRICATION D'UN FILM ÉTIRABLE
(JA) 延伸フィルムの製造方法及び延伸フィルムの製造装置
Abrégé :
(EN) Provided are a method for manufacturing a stretch film, whereby breakage is not prone to occur in the manufacturing process, and a device for manufacturing a stretch film. A method for manufacturing a stretch film, comprising slitting a raw material stretch film in a mechanical flow direction, wherein the method for manufacturing a stretch film has a slitting step for segmenting the raw material stretch film so that the raw material stretch film has an interval 0.5 mm or larger in a width direction thereof.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un film étirable, la rupture n'étant pas sujette à se produire dans le processus de fabrication, et un dispositif de fabrication d'un film étirable. L'invention concerne un procédé de fabrication d'un film étirable, comprenant la coupe d'un film étirable en matière première dans une direction de flux mécanique, le procédé de fabrication d'un film étirable présentant une étape de coupe pour segmenter le film étirable en matière première de telle sorte que le film étirable en matière première présente un intervalle de 0,5 mm ou plus dans une direction de largeur correspondante.
(JA) 製造工程において破断が生じにくい延伸フィルムの製造方法、及び延伸フィルムの製造装置を提供する。 原料延伸フィルムを機械流れ方向にスリットする延伸フィルムの製造方法において、前記原料延伸フィルムを、幅方向に0.5mm以上の間隔を有するように分断するスリット工程を有する、延伸フィルムの製造方法である。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)