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1. (WO2017170172) MASQUE DE FORMATION DE FILM, PROCÉDÉ POUR LA FABRICATION DE CELUI-CI ET PROCÉDÉ POUR LA RÉPARATION DE MASQUE DE FORMATION DE FILM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/170172    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/011844
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 23.03.2017
CIB :
C23C 14/04 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01)
Déposants : V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005 (JP)
Inventeurs : KUDO, Shuji; (JP).
NOGUCHI, Ryo; (JP).
SAITO, Yuji; (JP).
HAN, Zhihua; (JP)
Mandataire : OGAWA, Moriaki; (JP).
NISHIYAMA, Haruyuki; (JP).
OKUYAMA, Shoichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-066678 29.03.2016 JP
2016-241333 13.12.2016 JP
Titre (EN) FILM FORMATION MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND METHOD FOR REPAIRING FILM FORMATION MASK
(FR) MASQUE DE FORMATION DE FILM, PROCÉDÉ POUR LA FABRICATION DE CELUI-CI ET PROCÉDÉ POUR LA RÉPARATION DE MASQUE DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜マスク、その製造方法及び成膜マスクのリペア方法
Abrégé : front page image
(EN)In the present invention, on a film layer 4 provided with a plurality of open patterns 7, there are provided: a mask sheet 1 in which a metal layer 5 provided with a plurality of through holes 8 including at least one of the open patterns 7 is layered, one surface of the mask sheet 1 being divided into a plurality of unit cells 6 within which the plurality of open patterns 7 and through holes 8 are present; and a metal support member 2 which is joined to and supports the metal layer 5 of the mask sheet 1 in a state in which there is no external tension, and which has openings 10 corresponding to the unit cells 6 of the mask sheet 1. Through this configuration, high shape precision and positional precision are ensured in film formation of a thin-film pattern.
(FR)Selon la présente invention, les éléments suivants sont disposés sur une couche de film (4) pourvue d’une pluralité de motifs ouverts (7) : une feuille de masque (1) sur laquelle une couche métallique (5) pourvue d’une pluralité de trous traversants (8) comprenant au moins l’un des motifs ouverts (7) est disposée en couche, une surface de la feuille de masque (1) étant divisée en une pluralité de cellules unitaires (6) à l’intérieur desquelles la pluralité de motifs ouverts (7) et de trous traversants (8) sont présents ; et un élément de support métallique (2) qui est uni à la couche métallique (5) de la feuille de masque (1) et la supporte dans un état dans lequel il n’y a pas de tension externe et qui a des ouvertures (10) correspondant aux cellules unitaires (6) de la feuille de masque (1). Grâce à cette configuration, une précision de forme et une précision de position élevées sont garanties dans la formation de film d’un motif de film mince.
(JA)本発明は、複数の開口パターン7を設けたフィルム層4上に、少なくとも一つの前記開口パターン7を内包する複数の貫通孔8を設けたメタル層5を積層すると共に、一面を複数の前記開口パターン7及び貫通孔8が内在する複数の単位セル6に区画したマスクシート1と、外的なテンションがない状態の前記マスクシート1の前記メタル層5に接合してこれを支持し、前記マスクシート1の前記単位セル6に対応させて開口部10を有する金属製のサポート部材2と、を備えたものである。これにより、薄膜パターンの成膜に高い形状精度及び位置精度を確保する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)