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1. (WO2017170167) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SURFACE ET LIQUIDE DE TRAITEMENT DE SURFACE
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N° de publication : WO/2017/170167 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/011824
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 23.03.2017
CIB :
G03F 7/004 (2006.01) ,B05D 3/06 (2006.01) ,C09K 3/00 (2006.01) ,C09K 3/18 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
D
PROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
3
Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliqués; Traitement ultérieur des revêtements appliqués, p.ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides
06
par exposition à des rayonnements
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3
Substances non couvertes ailleurs
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3
Substances non couvertes ailleurs
18
à appliquer sur des surfaces pour y minimiser l'adhérence de la glace, du brouillard ou de l'eau; Substances antigel ou provoquant le dégel pour application sur des surfaces
Déposants :
東京応化工業株式会社 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012, JP
Inventeurs :
先崎 尊博 SENZAKI, Takahiro; JP
Mandataire :
正林 真之 SHOBAYASHI, Masayuki; JP
Données relatives à la priorité :
2016-06813030.03.2016JP
Titre (EN) SURFACE TREATMENT METHOD AND SURFACE TREATMENT LIQUID
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SURFACE ET LIQUIDE DE TRAITEMENT DE SURFACE
(JA) 表面処理方法、及び表面処理液
Abrégé :
(EN) To provide: a surface treatment method which is able to achieve good hydrophilization or hydrophobization of the surface of an object to be processed, and which is capable of forming a region that has a high surface treatment effect and a region that has a low surface treatment effect on the object to be processed; and a surface treatment liquid which is suitably used in this surface treatment method. A surface treatment method wherein a thin film that has a surface modification function, while having a film thickness of 10 nm or less is formed by rinsing a coating film which is formed from a photosensitive surface treatment liquid and has been exposed to light and then baked. In this surface treatment method, the photosensitive surface treatment liquid is configured to contain (A) a resin, (B) a photoacid generator and (C) a solvent; a resin having a functional group I that is composed of one or more groups selected from the group consisting of a hydroxyl group, a cyano group and a carboxy group and a functional group II that is a hydrophilic group or a hydrophobic group other than the functional group I is used as the resin (A); and a compound that generates a strong acid having a pKa of 1 or less by the action of light is used as the photoacid generator (B).
(FR) L'invention se rapporte : à un procédé de traitement de surface, qui permet d'obtenir une bonne hydrophilisation ou une bonne hydrophobisation de la surface d'un objet devant être traité, et qui peut former une région ayant un effet de traitement de surface élevé et une région ayant un faible effet de traitement de surface sur l'objet devant être traité ; ainsi qu'à un liquide de traitement de surface qui est utilisé de manière appropriée dans ce procédé de traitement de surface. L'invention a trait à un procédé de traitement de surface dans lequel un film mince qui a une fonction de modification de surface tout en présentant une épaisseur de film de 10 nm ou moins est formé par rinçage d'un film de revêtement qui est constitué d'un liquide de traitement de surface photosensible et qui a été exposé à la lumière puis cuit. Dans ce procédé de traitement de surface, le liquide de traitement de surface photosensible est conçu pour contenir (A) une résine, (B) un générateur de photoacide, et (C) un solvant ; une résine ayant un groupe fonctionnel I qui est composé d'un ou plusieurs groupes choisis dans le groupe constitué par un groupe hydroxyle, un groupe cyano et un groupe carboxy, et un groupe fonctionnel II qui est un groupe hydrophile ou un groupe hydrophobe autre que le groupe fonctionnel I, sert de résine (A) ; et un composé qui génère un acide fort ayant une pKa de 1 ou moins par l'action de la lumière sert de générateur de photoacide (B).
(JA) 被処理体の表面の良好な親水化又は疎水化を行うことができ、被処理体上に表面処理効果が高い領域と、表面処理効果が低い領域とを形成できる表面処理方法と、当該表面処理方法に好適に使用される表面処理液とを提供すること。 露光及びベークを施された感光性表面処理液からなる塗布膜に対して、リンスを行って、膜厚10nm以下の表面改質機能を有する薄膜を形成する表面処理方法において、感光性表面処理液に、(A)樹脂と、(B)光酸発生剤と、(C)溶媒とを含有させ、(A)樹脂として、水酸基、シアノ基、及びカルボキシ基からなる群より選択される1以上の基である官能基Iと、官能基I以外の親水性基又は疎水性基である官能基IIとを有する樹脂を用い、且つ、(B)光酸発生剤として、光の作用によりpKaが1以下の強酸を発生させる化合物を用いる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)