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1. (WO2017170093) COMPOSITION DE FURFURAL ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSITION DE FURFURAL
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N° de publication : WO/2017/170093 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/011614
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 23.03.2017
CIB :
C07D 307/50 (2006.01)
Déposants : OJI HOLDINGS CORPORATION[JP/JP]; 7-5, Ginza 4-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061, JP
Inventeurs : SANAMI Yuji; JP
NAKAYAMA Kodai; JP
DANO Nobuhisa; JP
HAGIWARA Shinya; JP
UCHIDA Yosuke; JP
Mandataire : SHIGA Masatake; JP
TAKAHASHI Norio; JP
SUZUKI Mitsuyoshi; JP
YANAI Noriko; JP
Données relatives à la priorité :
2016-06921930.03.2016JP
Titre (EN) FURFURAL COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING FURFURAL COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE FURFURAL ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSITION DE FURFURAL
(JA) フルフラール組成物及びフルフラール組成物の製造方法
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a furfural composition which contains furfural as a main component, and which is configured such that: the content of furfural in the furfural composition is 98% by mass or more relative to the total mass of the furfural composition; and the content of 3-methyl butanal in the furfural composition is 0.004% by mass or less relative to the total mass of the furfural composition.
(FR) La présente invention concerne une composition de furfural qui contient du furfural en tant que constituant principal et qui est conçue de telle sorte que : la teneur en furfural dans la composition de furfural est de 98 % en masse ou plus par rapport à la masse totale de la composition de furfural ; et la teneur en 3-méthylbutanal dans la composition de furfural est de 0,004 % en masse ou moins par rapport à la masse totale de la composition de furfural.
(JA) 本発明は、フルフラールを主成分として含むフルフラール組成物であって、前記フルフラール組成物中に占める前記フルフラールの含有量が、前記フルフラール組成物の総質量に対して、98質量%以上であり、前記フルフラール組成物中に占める3-メチルブタナールの含有量が、前記フルフラール組成物の総質量に対して、0.004質量%以下である、フルフラール組成物に関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)