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1. (WO2017170062) COMPOSITION POUR POLISSAGE

Pub. No.:    WO/2017/170062    International Application No.:    PCT/JP2017/011527
Publication Date: Fri Oct 06 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Thu Mar 23 00:59:59 CET 2017
IPC: C09K 3/14
B24B 37/00
H01L 21/304
Applicants: FUJIMI INCORPORATED
株式会社フジミインコーポレーテッド
Inventors: ISHIBASHI, Tomoaki
石橋 智明
Title: COMPOSITION POUR POLISSAGE
Abstract:
L’invention fournit une composition pour polissage qui est destinée à polir un matériau objet de polissage possédant une dureté Vickers supérieure ou égale à 1500Hv. Cette composition pour polissage contient des grains abrasifs d’alumine et de l’eau. Les grains abrasifs d’alumine présentent un point isoélectrique inférieur à 8,0, et un pH inférieur à celui de la composition pour polissage.