WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2017169981) SOLUTION AQUEUSE PERMETTANT DE REVÊTIR UN MOTIF DE RÉSERVE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF UTILISANT CETTE SOLUTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/169981    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/011230
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 21.03.2017
CIB :
G03F 7/40 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventeurs : NISHITA, Tokio; (JP).
SAKAMOTO, Rikimaru; (JP)
Mandataire : HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-069086 30.03.2016 JP
Titre (EN) AQUEOUS SOLUTION FOR COATING RESIST PATTERN AND PATTERN FORMATION METHOD USING SAME
(FR) SOLUTION AQUEUSE PERMETTANT DE REVÊTIR UN MOTIF DE RÉSERVE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF UTILISANT CETTE SOLUTION
(JA) レジストパターン被覆用水溶液及びそれを用いたパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To provide a novel aqueous solution for coating a resist pattern. [Solution] The aqueous solution for coating a resist pattern according to the present invention comprises: component A which is a copolymer having, on the main chain, an ethylene oxide unit and an alkylene oxide unit having 3 carbon atoms, and having a hydroxy group at a terminal; component B which is a water-soluble polymer (excluding the copolymer of component A), a water-soluble monomer, or a water-soluble oligomer; and component C which is a solvent containing water as a main ingredient. The copolymer of component A is, for example, a block copolymer represented by formula (1). (In the formula: R1, R2, and R3 independently represent an ethylene group, a propylene group, or a trimethylene group; and x, y, and z independently represent an integer of 5-100.)
(FR)Le problème décrit par l'invention est de pourvoir à une nouvelle solution aqueuse permettant de revêtir un motif de réserve. La solution selon l'invention porte sur une solution aqueuse qui permet de revêtir un motif de réserve et qui comprend : un constituant A qui est un copolymère ayant, sur la chaîne principale, une unité d'oxyde d'éthylène et une unité d'oxyde d'alkylène présentant 3 atomes de carbone, et ayant un groupe hydroxy à une extrémité ; un constituant B qui est un polymère hydrosoluble (à l'exclusion du copolymère du constituant A), un monomère hydrosoluble, ou un oligomère hydrosoluble ; et un constituant C qui est un solvant contenant de l'eau comme ingrédient principal. Le copolymère du constituant A est, par exemple, un copolymère à blocs représenté par la formule (1). (Dans la formule : R1, R2 et R3 représentent indépendamment un groupe éthylène, un groupe propylène ou un groupe triméthylène ; et x, y, et z représentent indépendamment un nombre entier de 5 à 100.)
(JA)【課題】 新規なレジストパターン被覆用水溶液を提供する。 【解決手段】 A成分:主鎖にエチレンオキシド単位及び炭素原子数3のアルキレンオキシド単位、並びに末端にヒドロキシ基を有する共重合体、B成分:水溶性ポリマー(但し、前記A成分の共重合体を除く)、水溶性モノマー又は水溶性オリゴマー、及びC成分:水を主成分とする溶剤を含むレジストパターン被覆用水溶液。前記A成分の共重合体は、例えば下記式(1)で表されるブロックコポリマーである。 (式中、R1、R2及びR3はそれぞれ独立にエチレン基、プロピレン基又はトリメチレン基を表し、x、y及びzはそれぞれ独立に5乃至100の整数を表す。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)