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1. (WO2017169971) NOUVEAU COMPOSÉ ET PROCÉDÉ POUR SA PRODUCTION

Pub. No.:    WO/2017/169971    International Application No.:    PCT/JP2017/011172
Publication Date: Fri Oct 06 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Wed Mar 22 00:59:59 CET 2017
IPC: C07D 235/18
H01L 51/05
H01L 51/30
H01L 51/46
H01L 51/50
Applicants: SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
住友化学株式会社
CAMBRIDGE DISPLAY TECHNOLOGY LIMITED
ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド
Inventors: KOBAYASHI Satoshi
小林 諭
IIJIMA Takayuki
飯島 孝幸
AKINO Nobuhiko
秋野 喜彦
ZUBERI Sheena
ズベリ シーナ
Title: NOUVEAU COMPOSÉ ET PROCÉDÉ POUR SA PRODUCTION
Abstract:
L'invention concerne un composé représenté par la formule (1) [dans laquelle les radicaux A1 représentent, indépendamment, un atome d'oxygène, un atome de soufre, -NR5- ou -PR5-, au moins l'un des radicaux A1 représentant -NR5- ou -PR5- ; R1 représente un atome d'halogène, un groupe alkyle, un groupe cycloalkyle, un groupe alcoxy, un groupe cycloalcoxy, un groupe aryloxy, un groupe alkylsulfényle, un groupe cycloalkylsulfényle, un groupe arylsulfényle ou un groupe amino disubstitué ; R2 et R3 représentent, indépendamment, un groupe alkyle, un groupe cycloalkyle, un groupe aryle, un groupe alcoxy, un groupe cycloalcoxy, un groupe aryloxy, un groupe alkylsulfényle, un groupe cycloalkylsulfényle, un groupe arylsulfényle, un groupe hétérocyclique monovalent, un atome d'halogène ou un groupe amino disubstitué ; R4 représente un atome d'hydrogène, -C(R6)3, -OR7, -N(R7)2 ou -Si(R7)3 ; m représente un entier de 0 à 3 ; et n représente un entier de 0 à 4].