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1. (WO2017169710) DISPOSITIF DE CIRCUIT DE GUIDE D'ONDES OPTIQUE
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N° de publication :    WO/2017/169710    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/010077
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 14.03.2017
CIB :
G02F 1/01 (2006.01), G02B 6/12 (2006.01), G02B 6/125 (2006.01)
Déposants : FURUKAWA ELECTRIC CO., LTD. [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008322 (JP)
Inventeurs : TAKAHASHI, Masanori; (JP).
UCHIDA, Yasuyoshi; (JP).
YAMASAKI, Shintaro; (JP).
HASEGAWA, Junichi; (JP)
Mandataire : SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-070091 31.03.2016 JP
Titre (EN) OPTICAL WAVEGUIDE CIRCUIT DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE CIRCUIT DE GUIDE D'ONDES OPTIQUE
(JA) 光導波回路装置
Abrégé : front page image
(EN)An optical waveguide circuit device is provided with an optical waveguide circuit, a plurality of heaters, a plurality of wiring electrode layers, and an insulating layer. The optical waveguide circuit has a cladding layer comprising silica-based glass formed on a substrate, and a plurality of optical waveguides comprising silica-based glass formed in the cladding layer. The plurality of heaters are each formed above the cladding layer of the optical waveguide circuit and above the optical waveguide, and heat the optical waveguides of the optical waveguide circuit. The plurality of wiring electrode layers are formed above the cladding layer of the optical waveguide circuit, connect with the plurality of heaters, respectively, and supply electric power to the connected heaters. The insulating layer covers these cladding layer, heaters and plurality of wiring electrode layers. The plurality of wiring electrode layers are each formed in any of a plurality of wiring layers having different distances from the substrate of the optical waveguide circuit. The wiring electrode layers adjacent to each other in plan view are formed in different wiring layers, respectively. The wiring electrode layers adjacent to each other in the same wiring layer are disposed a predetermined distance or more apart from each other.
(FR)L'invention concerne un dispositif de circuit de guide d'ondes optique qui est pourvu d'un circuit de guide d'ondes optique, d'une pluralité d'éléments chauffants, d'une pluralité de couches d'électrode de câblage et d'une couche isolante. Le circuit de guide d'ondes optique comporte une couche de revêtement comprenant du verre à base de silice formé sur un substrat, et une pluralité de guides d'ondes optiques comprenant du verre à base de silice formé dans la couche de revêtement. La pluralité d'éléments chauffants sont chacun formés au-dessus de la couche de revêtement du circuit de guide d'ondes optique et au-dessus du guide d'ondes optique et chauffent les guides d'ondes optiques du circuit de guide d'ondes optique. La pluralité de couches d'électrode de câblage sont formées au-dessus de la couche de revêtement du circuit de guide d'ondes optique, sont connectées à la pluralité d'éléments chauffants, respectivement, et fournissent de l'énergie électrique aux éléments chauffants raccordés. La couche isolante recouvre la couche de revêtement, les éléments chauffants et la pluralité de couches d'électrode de câblage. La pluralité de couches d'électrode de câblage sont chacune formées dans l'une quelconque d'une pluralité de couches de câblage ayant des distances différentes à partir du substrat du circuit de guide d'ondes optique. Les couches d'électrode de câblage adjacentes les unes aux autres selon une vue en plan sont formées dans différentes couches de câblage, respectivement. Les couches d'électrode de câblage adjacentes les unes aux autres dans la même couche de câblage sont disposées à une distance prédéterminée ou davantage espacées les unes des autres.
(JA)光導波回路装置は、光導波回路と複数のヒータと複数の配線電極層と絶縁層とを備える。光導波回路は、基板上に形成された石英系ガラスからなるクラッド層と、このクラッド層内に形成された石英系ガラスからなる複数の光導波路と、を有する。複数のヒータは、光導波回路のクラッド層の上方かつ光導波路の上方に形成され、光導波回路の光導波路を加熱する。複数の配線電極層は、光導波回路のクラッド層の上方に形成され、複数のヒータとそれぞれ接続し、接続したヒータに電力を供給する。絶縁層は、これらのクラッド層、ヒータ、および複数の配線電極層を覆う。複数の配線電極層は、光導波回路の基板からの距離が互いに異なる複数の配線層のいずれかに形成されている。平面視で互いに隣接する配線電極層は、それぞれ異なる配線層に形成されている。同一の配線層において互いに隣接する配線電極層は、所定の距離以上離間している。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)