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1. (WO2017169635) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT DE PROGRAMME

Pub. No.:    WO/2017/169635    International Application No.:    PCT/JP2017/009518
Publication Date: Fri Oct 06 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Fri Mar 10 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 21/304
G03F 1/82
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
株式会社SCREENホールディングス
Inventors: OKITA, Nobuaki
沖田 展彬
SHINOHARA, Takashi
篠原 敬
Title: DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT DE PROGRAMME
Abstract:
L'invention concerne un dispositif de traitement de substrat (1) qui comprend : un mécanisme de maintien et de rotation de substrat (41) qui maintient un substrat (W) en position horizontale et fait tourner le substrat (W) autour d'un axe de rotation vertical (AX) passant à travers une surface principale du substrat (W) ; une brosse (30) qui vient en butée contre la surface principale du substrat (W) qui est maintenu par le mécanisme de maintien et de rotation de substrat pour nettoyer la surface principale du substrat (W) ; une première buse (10) qui éjecte un fluide de traitement vers la surface principale du substrat (W) qui est maintenu par le mécanisme de maintien et de rotation de substrat ; et une seconde buse (20) qui éjecte un fluide de traitement vers une région adjacente en aval (DR) de la surface principale du substrat (W) qui est maintenu par le mécanisme de maintien et de rotation de substrat, qui est contiguë, en aval dans un sens de rotation du substrat (W), à une région d'appui (AR) dans laquelle la brosse (30) vient en butée contre la surface principale du substrat (W).