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1. (WO2017169556) ÉLECTRODE À PLASMA ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA

Pub. No.:    WO/2017/169556    International Application No.:    PCT/JP2017/008928
Publication Date: Fri Oct 06 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Wed Mar 08 00:59:59 CET 2017
IPC: H05H 1/46
C23C 16/509
H01L 21/31
H01L 21/316
H01L 21/312
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED
東京エレクトロン株式会社
Inventors: MORISHIMA, Masato
森嶋 雅人
IWABUCHI, Katsuhiko
岩渕 勝彦
FUSE, Takashi
布瀬 暁志
FUJIMOTO, Madoka
藤本 円華
NISHIDE, Daisuke
西出 大亮
Title: ÉLECTRODE À PLASMA ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA
Abstract:
L'invention concerne une électrode à plasma (30) qui est pourvue d'une plaque d'électrode intermédiaire (60), d'une plaque de mise à la masse (40) et d'une plaque isolante intermédiaire (50), agencée entre la plaque d'électrode intermédiaire (60) et la plaque de mise à la masse (40). Une partie saillante (61) de la plaque d'électrode intermédiaire (60) est agencée à l'intérieur d'un trou traversant (42) dans la plaque de mise à la masse (40) et à l'intérieur d'un trou traversant (52) dans la plaque isolante intermédiaire (50). Soit un trou traversant (62) ménagé sur l'axe central de la partie saillante (61), soit un trou traversant (41) ménagé autour du trou traversant (42) expulse un premier gaz de traitement vers le bas au-delà de la plaque de mise à la masse (40). L'autre trou, parmi le trou traversant (62) et le trou traversant (41), évacue un gaz présent au-dessous de la plaque de mise à la masse (40). Un second chemin d'écoulement autour de la partie saillante (61) fournit un second gaz de traitement, qui est fourni par l'intermédiaire d'un premier chemin d'écoulement (68), à un espace compris entre la paroi externe de la partie saillante (61) et la paroi interne du trou traversant (42). Le second gaz de traitement fourni à l'espace est transformé en plasma dans l'espace par application d'une puissance haute fréquence à la plaque d'électrode intermédiaire (60).