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1. (WO2017169455) APPAREIL DE FABRICATION DE MASQUE ET PROCÉDÉ DE COMMANDE D'APPAREIL DE FABRICATION DE MASQUE
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N° de publication :    WO/2017/169455    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/007690
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 28.02.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/68 (2006.01)
Déposants : V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005 (JP)
Inventeurs : YONEZAWA Makoto; (JP)
Mandataire : SAKATA Yukari; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-064324 28.03.2016 JP
Titre (EN) MASK MANUFACTURING APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING MASK MANUFACTURING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE FABRICATION DE MASQUE ET PROCÉDÉ DE COMMANDE D'APPAREIL DE FABRICATION DE MASQUE
(JA) マスク製造装置及びマスク製造装置の制御方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention improves pattern position accuracy. According to the present invention, a measurement value in the case where a measurement unit is assumed to be located at the positon of a light irradiation unit 43 is calculated on the basis of the weighted average value of values acquired by position measurement units 29 provided to both sides of a first movement unit 20 in a second direction and on the basis of the weighted average value of values acquired by position measurement units 39 provided to both sides, in a first direction, of a second movement unit having a second driving unit 30. The positional relation between the light irradiation unit 43 and a stage 41 is measured by laser interferometers 51, 52, and 53 through measurement of the position of a bar mirror provided to the stage 41 with the position of two mirrors provided to the light irradiation unit 32 set as the reference. Then, correction is made for the position measurement units 29 and 39 by comparing the measurements, and drawing is performed on a mask M by using measurements from the position measurement units 29 and 39 after correction.
(FR)La présente invention améliore la précision de la position d'un modèle. Selon la présente invention, une valeur de mesure correspondant au cas où une unité de mesure est supposée être située à la position d'une unité d'exposition à la lumière 43 est calculée sur la base de la valeur moyenne pondérée de valeurs acquises par des unités de mesure de position 29 disposées sur les deux côtés d'une première unité de déplacement 20 dans une seconde direction et sur la base de la valeur moyenne pondérée de valeurs acquises par des unités de mesure de position 39 disposées sur les deux côtés, dans une première direction, d'une seconde unité de déplacement ayant une seconde unité d'entraînement 30. La relation de position entre l'unité d'exposition à la lumière 43 et un plateau 41 est mesurée par des interféromètres laser 51, 52, et 53 par mesure de la position d'un miroir à barre prévu sur le plateau 41, la position de deux miroirs prévus sur l'unité d'exposition à la lumière 32 étant définie en tant que référence. Une correction est ensuite effectuée pour les unités de mesure de position 29 et 39 en comparant les mesures, et un dessin est réalisé sur un masque M par utilisation de mesures provenant des unités de mesure de position 29 et 39 après correction.
(JA)パターンの位置精度を高くすることができる。 第1移動部20の第2方向における両側に設けられた位置測定部29により取得した値の重み付け平均値と、第2駆動部30を有する第2移動部の第1方向における両側に設けられた位置測定部39により取得した値の重み付け平均値と、に基づいて、光照射部43の位置に測定部があると仮定したときの測定値を求める。また、光照射部32に設けられた2つのミラーの位置を基準として、ステージ41に設けられたバーミラーの位置を測定することで、光照射部43とステージ41との位置関係をレーザ干渉計51、52、53で測定する。そして、これらを比較して位置測定部29、39を校正し、校正後の位置測定部29、39による測定を用いてマスクMに描画を行う。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)