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1. (WO2017169243) MIROIR EC À SEMI-CONDUCTEUR ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
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N° de publication : WO/2017/169243 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/005655
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 16.02.2017
CIB :
G02F 1/15 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
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pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
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basés sur des éléments électrochromiques
Déposants :
株式会社 村上開明堂 MURAKAMI CORPORATION [JP/JP]; 静岡県静岡市葵区伝馬町11番地5号 11-5 Tenma-cho, Aoi-ku, Shizuoka-city, Shizuoka 4208550, JP
Inventeurs :
増田 聖斗 MASUDA Masato; JP
中村 正俊 NAKAMURA Masatoshi; JP
Mandataire :
加藤 邦彦 KATO Kunihiko; JP
Données relatives à la priorité :
2016-07052631.03.2016JP
Titre (EN) SOLID STATE EC MIRROR AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) MIROIR EC À SEMI-CONDUCTEUR ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 固体型ECミラーおよびその製造方法
Abrégé :
(EN) [Problem] To constitute a mirror surface in an electrode lead-out region by forming a reflective metal film constituting the reflection surface of a solid state EC mirror up to the electrode lead-out region of a transparent conductive film. [Solution] A solid state EC mirror 10 has a structure wherein a transparent conductive film 14, a solid state EC film 16, and a reflective metal film 18 are laminated on the rear surface of a transparent substrate 12. The transparent conductive film 14 includes an EC film laminated region 14b having the EC film 16 laminated thereon and a non-EC film laminated region 14a having no EC film 16 laminated thereon. The EC film laminated region 14b and the non-EC film laminated region 14a are electrically connected to each other. The reflective metal film 18 is formed over the region of the EC film 16 and the non-EC film laminated region 14a. The reflective metal film 18 includes a first region 18a and a second region 18b divided by a dividing line 20 passing through the region of the EC film 16. The first region 18a is electrically connected to the non-EC film laminated region 14a. The second region 18b is not electrically connected to the non-EC film laminated region 14a.
(FR) [Problème] Constituer une surface de miroir dans une région de sortie d'électrode par formation d’un film métallique réfléchissant constituant la surface de réflexion d'un miroir EC à semi-conducteur jusqu'à la région de sortie d'électrode d'un film conducteur transparent. [Solution] La présente invention concerne un miroir EC à semi-conducteur 10 qui présente une structure dans laquelle un film conducteur transparent 14, un film EC à semi-conducteur 16 et un film métallique réfléchissant 18 sont stratifiés sur la surface arrière d'un substrat transparent 12. Le film conducteur transparent 14 comprend une région stratifiée de film EC 14b ayant le film EC 16 stratifié sur celle-ci et une région stratifiée de film non-EC 14a ne comportant aucun film EC 16 stratifié sur celle-ci. La région stratifiée de film EC 14b et la région stratifiée de film non-EC 14a sont électriquement connectées l'une à l'autre. Le film métallique réfléchissant 18 est formé sur la région du film EC 16 et la région stratifiée de film non-EC 14a. Le film métallique réfléchissant 18 comprend une première région 18a et une deuxième région 18b divisées par une ligne de division 20 traversant la région du film EC 16. La première région 18a est électriquement connectée à la région stratifiée de film non-EC 14a. La deuxième région 18b n'est pas électriquement connectée à la région stratifiée de film non-EC 14a.
(JA) 【課題】この発明は、固体型ECミラーの反射面を構成する金属反射膜を透明導電膜の電極取出領域にまで成膜して、該電極取出領域に鏡面を構成できるようにするものである。 【解決手段】固体型ECミラー10は、透明基板12の裏面に、透明導電膜14、固体型EC膜16、金属反射膜18を積層した構造を有する。透明導電膜14は、EC膜16が積層されたEC膜積層領域14bと、EC膜16が積層されていないEC膜非積層領域14aを有する。EC膜積層領域14bとEC膜非積層領域14aは相互に導通している。金属反射膜18はEC膜16の領域およびEC膜非積層領域14aにかけて成膜されている。金属反射膜18は、EC膜16の領域内を通る分割線20で分割された第1領域18aと第2領域18bを有する。第1領域18aはEC膜非積層領域14aに導通する。第2領域18bはEC膜非積層領域14aに非導通である。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)