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1. (WO2017169155) DISPOSITIF DE TRAITEMENT LIQUIDE DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT LIQUIDE DE SUBSTRAT ET SUPPORT DE STOCKAGE LISIBLE PAR ORDINATEUR SUR LEQUEL EST STOCKÉ UN PROGRAMME DE TRAITEMENT LIQUIDE DE SUBSTRAT

Pub. No.:    WO/2017/169155    International Application No.:    PCT/JP2017/004681
Publication Date: Fri Oct 06 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Fri Feb 10 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 21/306
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED
東京エレクトロン株式会社
Inventors: SATO Hideaki
佐藤 秀明
KIM Jinhyun
金 振鉉
Title: DISPOSITIF DE TRAITEMENT LIQUIDE DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT LIQUIDE DE SUBSTRAT ET SUPPORT DE STOCKAGE LISIBLE PAR ORDINATEUR SUR LEQUEL EST STOCKÉ UN PROGRAMME DE TRAITEMENT LIQUIDE DE SUBSTRAT
Abstract:
L'invention a pour but de fournir un procédé de traitement liquide de substrat (dispositif de traitement liquide de substrat, support de stockage) avec lequel il serait possible d'éliminer par gravure, avec précision, un film de revêtement à l'extérieur d'une partie en creux tout en laissant le film de revêtement dans la partie en creux du substrat. Pour atteindre ce but, l'invention porte sur un procédé de traitement liquide de substrat pour exécuter un processus de gravure dans lequel un liquide de gravure pour élimination de film de revêtement est mis en contact avec la surface d'un substrat ayant une partie en creux à l'intérieur et à l'extérieur de laquelle est formé un film de revêtement, le procédé comprenant : une première étape d'élimination de film de revêtement consistant à porter le liquide de gravure à une première température pour une première vitesse de gravure, et à éliminer le film de revêtement à l'extérieur de la partie en creux pendant une première durée de traitement ; puis, une seconde étape d'élimination de film de revêtement consistant à porter le liquide de gravure à une seconde température pour une seconde vitesse de gravure inférieure à la première vitesse de gravure, et à éliminer le film de revêtement à l'extérieur de la partie en creux pendant une seconde durée de traitement tout en laissant le film de revêtement à l'intérieur de la partie en creux.