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1. (WO2017169154) ENSEMBLE DE COMPOSITIONS DE POLISSAGE, COMPOSITION DE PRÉPOLISSAGE, ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE DE PLAQUETTE DE SILICIUM
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N° de publication :    WO/2017/169154    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/004630
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 08.02.2017
CIB :
H01L 21/304 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), C09K 3/14 (2006.01)
Déposants : FUJIMI INCORPORATED [JP/JP]; 1-1, Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-shi, Aichi 4528502 (JP)
Inventeurs : TSUCHIYA Kohsuke; (JP).
ASADA Maki; (JP)
Mandataire : MORI Tetsuya; (JP).
SUZUKI Sohbe; (JP).
TANAKA Hidetetsu; (JP).
YAMADA Yuki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-067868 30.03.2016 JP
Titre (EN) SET OF COMPOSITIONS FOR POLISHING, PRE-POLISHING COMPOSITION, AND METHOD OF POLISHING SILICON WAFER
(FR) ENSEMBLE DE COMPOSITIONS DE POLISSAGE, COMPOSITION DE PRÉPOLISSAGE, ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE DE PLAQUETTE DE SILICIUM
(JA) 研磨用組成物セット、前研磨用組成物、及びシリコンウェーハの研磨方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a set of compositions for polishing with which it is possible to achieve a high-quality polished surface by reducing haze. This set of compositions for polishing is provided with: a finish polishing composition to be used in a finish polishing step of finish polishing a silicon wafer; and a pre-polishing composition to be used in a pre-polishing step, which is a polishing step preformed one step prior to the finish polishing step. A hydrophilicity parameter P1 of the pre-polishing composition, obtained from a standard test 1, is less than 100; a finishing accuracy parameter P2 of the pre-polishing composition, obtained from a standard test 2, is at most equal to 1000; and a polishing processability parameter F1 of the finish polishing composition, obtained from a standard test 3, is at most equal to 80.
(FR)L’invention concerne un ensemble de compositions de polissage grâce auquel il est possible d’atteindre une surface polie de haute qualité en réduisant le voile. Cet ensemble de compositions de polissage comporte : une composition de polissage de finition utilisable lors d’une étape de polissage de finition de polissage de finition d’une plaquette de silicium ; et une composition de prépolissage utilisable lors d’une étape de prépolissage, laquelle est une étape de polissage effectuée une étape avant l’étape de polissage de finition. Un paramètre d’hydrophilie (P1) de la composition de prépolissage, obtenu par un essai normalisé (1), est inférieur à 100 ; un paramètre de précision de finition (P2) de la composition de prépolissage, obtenu par un essai normalisé (2), est au plus égal à 1000 ; et un paramètre de capacité de traitement de polissage (F1) de la composition de polissage de finition, obtenu par un essai normalisé (3), est au plus égal à 80.
(JA)ヘイズを低減して高品位な被研磨面を実現可能な研磨用組成物セットを提供する。研磨用組成物セットは、シリコンウェーハの仕上げ研磨を行う仕上げ研磨工程で使用される仕上げ研磨用組成物と、仕上げ研磨工程の1段階前の研磨工程である前研磨工程で使用される前研磨用組成物と、を備える。標準試験1で求められる前研磨用組成物の親水性パラメータP1が100未満で、標準試験2で求められる前研磨用組成物の仕上げ精度パラメータP2が1000以下で、標準試験3で求められる仕上げ研磨用組成物の研磨加工性パラメータF1が80以下である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)