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1. (WO2017169029) CATHODE DE PULVÉRISATION, DISPOSITIF DE PULVÉRISATION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN CORPS FORMÉ PAR UN FILM
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N° de publication : WO/2017/169029 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/002463
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 25.01.2017
CIB :
C23C 14/34 (2006.01) ,H05H 1/46 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
34
Pulvérisation cathodique
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1
Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24
Production du plasma
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utilisant des champs électromagnétiques appliqués, p.ex. de l'énergie à haute fréquence ou sous forme de micro-ondes
Déposants :
京浜ラムテック株式会社 KEIHIN RAMTECH CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県鎌倉市西鎌倉一丁目9番2号 9-2, Nishikamakura 1-chome, Kamakura-shi, Kanagawa 2480035, JP
Inventeurs :
岩田 寛 IWATA, Hiroshi; JP
根津 敏幸 NEDU, Toshiyuki; JP
高桑 勇太 TAKAKUWA, Yuta; JP
岡田 直弥 OKADA, Naoya; JP
佐藤 一平 SATO, Ippei; JP
柴田 尚憲 SHIBATA, Naonori; JP
橋本 敬一 HASHIMOTO, Keiichi; JP
Mandataire :
森 幸一 MORI, Koh-ichi; JP
Données relatives à la priorité :
2016-06706830.03.2016JP
2016-16870531.08.2016JP
Titre (EN) SPUTTERING CATHODE, SPUTTERING DEVICE, AND METHOD FOR PRODUCING FILM-FORMED BODY
(FR) CATHODE DE PULVÉRISATION, DISPOSITIF DE PULVÉRISATION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN CORPS FORMÉ PAR UN FILM
(JA) スパッタリングカソード、スパッタリング装置および成膜体の製造方法
Abrégé :
(EN) This sputtering cathode has a sputtering target having a tubular shape in which the cross-sectional shape thereof has a pair of long side sections facing each other, and an erosion surface facing inward. Using the sputtering target, while moving a body to be film-formed, which has a film formation region having a narrower width than the long side sections of the sputtering target, parallel to one end face of the sputtering target and at a constant speed in a direction perpendicular to the long side sections above a space surrounded by the sputtering target, discharge is performed such that a plasma circulating along the inner surface of the sputtering target is generated, and the inner surface of the long side sections of the sputtering target is sputtered by ions in the plasma generated by a sputtering gas to perform film formation in the film formation region of the body to be film-formed.
(FR) La cathode de pulvérisation selon la présente invention a une cible de pulvérisation ayant une forme tubulaire dont la forme de section transversale a une paire de sections latérales longues se faisant face, et une surface d'érosion tournée vers l'intérieur. En utilisant la cible de pulvérisation, tout en déplaçant un corps à former par un film, qui a une région de formation de film ayant une largeur plus étroite que les sections latérales longues de la cible de pulvérisation, parallèlement à une face d'extrémité de la cible de pulvérisation et à une vitesse constante dans une direction perpendiculaire aux sections latérales longues au-dessus d'un espace entouré par la cible de pulvérisation, une décharge est réalisée de telle sorte qu'un plasma circulant le long de la surface interne de la cible de pulvérisation est généré, et la surface interne des sections latérales longues de la cible de pulvérisation est pulvérisée par des ions dans le plasma généré par un gaz de pulvérisation pour réaliser la formation du film dans la région de formation de film du corps à former par un film.
(JA) スパッタリングカソードは、横断面形状が互いに対向する一対の長辺部を有する管状の形状を有し、エロージョン面が内側を向いているスパッタリングターゲットを有する。このスパッタリングカソードを用い、スパッタリングターゲットに囲まれた空間の上方においてスパッタリングターゲットの長辺部よりも幅が狭い成膜領域を有する被成膜体をスパッタリングターゲットの一端面に平行に、かつ長辺部に垂直な方向に一定速度で移動させながら、スパッタリングターゲットの内面に沿って周回するプラズマが発生するように放電を行ってスパッタリングガスにより発生するプラズマ中のイオンによりスパッタリングターゲットの長辺部の内面をスパッタリングして被成膜体の成膜領域に成膜を行う。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)