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1. (WO2017168774) PROCÉDÉ DE FABRICATION ET DISPOSITIF DE FABRICATION D'UN MASQUE DE DÉPÔT

Pub. No.:    WO/2017/168774    International Application No.:    PCT/JP2016/072172
Publication Date: Fri Oct 06 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Fri Jul 29 01:59:59 CEST 2016
IPC: H05B 33/10
C23C 14/24
H01L 51/50
Applicants: HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司
Inventors: SAKIO, Susumu
崎尾 進
Title: PROCÉDÉ DE FABRICATION ET DISPOSITIF DE FABRICATION D'UN MASQUE DE DÉPÔT
Abstract:
L'invention concerne un procédé de fabrication et un dispositif de fabrication d'un masque de dépôt dont la fabrication est possible en utilisant le même procédé de direction ou de placement lors de l'utilisation d'un masque de dépôt hybride comportant une couche de film de résine et une couche de film métallique. Un matériau de masque de dépôt, dans lequel une couche de film de résine (51) est agencée sur une surface d'une couche de film métallique (52) sur laquelle une ou plusieurs ouvertures (52a) sont formées, est soudé à un cadre métallique (53) dans un état où une force de traction prescrite est appliquée dans une direction prescrite de façon que la couche de film de résine (51) se trouve à l'extérieur ; le cadre métallique (53) est maintenu par une base (2) ; un élément/matériau de formation de cône (3) tel qu'une surface réfléchissante (3c) est agencé de façon à faire face à la couche de film métallique (52) sur l'intérieur du cadre métallique (53) ; des faisceaux laser (7) sont émis depuis le dessus de la couche de film de résine (51) ; un trou traversant (51a) est formé sur la couche de film de résine (51) ; les faisceaux laser qui sont passés à travers le trou traversant (51a) sont réfléchis par l'élément/matériau de formation de cône (3) ; et un cône (51b) est ainsi formé autour du trou traversant (51a).