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1. (WO2017168584) APPAREIL LASER ET SYSTÈME DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE DANS L'EXTRÊME ULTRAVIOLET
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   
N° de publication : WO/2017/168584 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/060214
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 29.03.2016
CIB :
H01S 3/131 (2006.01) ,H01S 3/0941 (2006.01) ,H01S 3/227 (2006.01) ,H01S 5/068 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
3
Lasers, c. à d. dispositifs pour la production, l'amplification, la modulation, la démodulation ou le changement de fréquence utilisant l'émission stimulée d'ondes infrarouges, visibles ou ultraviolettes
10
Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation
13
Stabilisation de paramètres de sortie de laser, p.ex. fréquence, amplitude
131
par commande du milieu actif, p.ex. par commande des procédés ou des appareils pour l'excitation
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
3
Lasers, c. à d. dispositifs pour la production, l'amplification, la modulation, la démodulation ou le changement de fréquence utilisant l'émission stimulée d'ondes infrarouges, visibles ou ultraviolettes
09
Procédés ou appareils pour l'excitation, p.ex. pompage
091
utilisant le pompage optique
094
par de la lumière cohérente
0941
produite par un laser à semi-conducteur, p.ex. par une diode laser
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
3
Lasers, c. à d. dispositifs pour la production, l'amplification, la modulation, la démodulation ou le changement de fréquence utilisant l'émission stimulée d'ondes infrarouges, visibles ou ultraviolettes
14
caractérisés par le matériau utilisé comme milieu actif
22
à gaz
227
Vapeur métallique
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
5
Lasers à semi-conducteurs
06
Dispositions pour commander les paramètres de sortie du laser, p.ex. en agissant sur le milieu actif
068
Stabilisation des paramètres de sortie du laser
Déposants :
ギガフォトン株式会社 GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 栃木県小山市大字横倉新田４００番地 400,Oaza Yokokurashinden,Oyama-shi, Tochigi 3238558, JP
Inventeurs :
野極　誠二 NOGIWA Seiji; JP
川筋　康文 KAWASUJI Yasufumi; JP
Mandataire :
保坂　延寿 HOSAKA Nobuhisa; 東京都千代田区神田佐久間町３‐２２　神田ＳＫビル４階　新井・橋本・保坂国際特許事務所 ARAI, HASHIMOTO, HOSAKA & ASSOCIATES, KANDA SK BLDG. 4F, 3-22, KANDA SAKUMA-CHO, CHIYODA-KU, TOKYO 1010025, JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) LASER APPARATUS AND SYSTEM FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT
(FR) APPAREIL LASER ET SYSTÈME DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE DANS L'EXTRÊME ULTRAVIOLET
(JA) レーザ装置及び極端紫外光生成システム
Abrégé :
(EN) A laser apparatus according to the present invention is provided with: a light source for outputting excitation light; an optical resonator an internal laser medium of which is excited by the excitation light and that outputs laser light; a temperature adjustment unit for adjusting the temperature of the light source to a reference temperature; a light detection unit for detecting the output of the laser light; and a control unit for changing the reference temperature on the basis of the output of the detected laser light.
(FR) Cette invention concerne un appareil laser comprenant : une source de lumière pour émettre une lumière d'excitation ; un résonateur optique dont un milieu laser interne est excité par la lumière d'excitation et qui émet une lumière laser ; une unité de réglage de température pour régler la température de la source de lumière à une température de référence ; une unité de détection de lumière pour détecter la sortie de la lumière laser ; et une unité de commande pour modifier la température de référence sur la base de la sortie de la lumière laser détectée.
(JA) レーザ装置は、励起光を出力する光源と、励起光により内部のレーザ媒質が励起されてレーザ光を出力する光共振器と、光源の温度を基準温度に調節する温度調節部と、レーザ光の出力を検出する光検出部と、検出されたレーザ光の出力に基づいて基準温度を変更する制御部と、を備える。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)