Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2017168093) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE ACTIVABLE PAR ABSORPTION MULTIPHOTONIQUE POUR FABRICATION TRIDIMENSIONNELLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2017/168093 N° de la demande internationale : PCT/FR2017/050719
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 29.03.2017
CIB :
G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,B29C 67/00 (2017.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
038
Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
C
FAÇONNAGE OU ASSEMBLAGE DES MATIÈRES PLASTIQUES; FAÇONNAGE DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL; POST-TRAITEMENT DES PRODUITS FAÇONNÉS, p.ex. RÉPARATION
67
Techniques de façonnage non couvertes par les groupes B29C39/-B29C65/106
Déposants :
UNIVERSITE GRENOBLE ALPES [FR/FR]; 621 Avenue Centrale 38400 SAINT MARTIN D'HERES, FR
Inventeurs :
STEPHAN, Olivier; FR
GREDY, Laetitia; FR
Mandataire :
CABINET HAUTIER; 20 rue de la Liberté 06000 Nice, FR
Données relatives à la priorité :
165275130.03.2016FR
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION THAT CAN BE ACTIVATED BY MULTIPHOTON ABSORPTION FOR THREE-DIMENSIONAL FABRICATION
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE ACTIVABLE PAR ABSORPTION MULTIPHOTONIQUE POUR FABRICATION TRIDIMENSIONNELLE
Abrégé :
(EN) The field of this invention is that of the fabrication of three-dimensional structures by multiphoton absorption. The objective of the invention is to provide a photosensitive composition that can be activated by multiphoton absorption which can be used for the fabrication of a three-dimensional structure which is biodegradable and/or biocompatible and/or bioresorbable. This structure can thus be used as a matrix for cell culture. The photosensitive composition comprises: - gelatin, - collagen, - a water-soluble photoinitiator, able to be excited by several photons and capable of generating singlet oxygen, - optionally a cell adhesion promoter, - and water. The invention also relates to a process for preparing the photosensitive composition, a process for preparing a three-dimensional structure from the photosensitive composition, the three-dimensional structure obtained by this preparation process and a matrix for cell culture comprising this structure.
(FR) Le domaine de cette invention est celui de la fabrication de structures tridimensionnelles par absorption multiphotonique. Le but de l'invention est de fournir une composition photosensible activable par absorption multiphotonique qui puisse être utilisée pour la fabrication de structure tridimensionnelle qui soit biodégradable et/ou biocompatible et/ou biorésorbable. Celle-ci peut ainsi être utilisée comme matrice pour la culture cellulaire. La composition photosensible comprend : - de la gélatine, - du collagène, - un photoinitiateur soluble dans l'eau, apte à être excité par plusieurs photons et capable de générer de l'oxygène singulet, - éventuellement un promoteur d'adhésion cellulaire, - et de l'eau. L'invention a également pour objet un procédé de préparation de la composition photosensible, un procédé de préparation d'une structure tridimensionnelle à partir de la composition photosensible, la structure tridimensionnelle obtenue par ce procédé de préparation et une matrice pour la culture cellulaire comprenant cette structure.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)