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1. (WO2017167534) PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION ÉLECTROCHIMIQUE DE PARTICULES
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N° de publication :    WO/2017/167534    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/054844
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 02.03.2017
CIB :
C25B 11/02 (2006.01), C25B 11/03 (2006.01), C25D 1/00 (2006.01), C25D 11/18 (2006.01), C25D 11/04 (2006.01)
Déposants : SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Werner-von-Siemens-Straße 1 80333 München (DE)
Inventeurs : DOYE, Christian; (DE).
JENSEN, Jens Dahl; (DE).
PYRITZ, Uwe; (DE).
SCHNEIDER, Manuela; (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2016 205 313.2 31.03.2016 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUM ELEKTROCHEMISCHEN ERZEUGEN VON PARTIKELN
(EN) METHOD FOR ELECTROCHEMICALLY GENERATING PARTICLES
(FR) PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION ÉLECTROCHIMIQUE DE PARTICULES
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum elektrochemischen Erzeugen von Partikeln (21) auf einem Substrat (11). Die Partikel werden auf diesem strukturierten Substrat (11) elektrochemisch erzeugt und nach der Erzeugung abgetrennt. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Oberfläche des Substrats vor dem Erzeugen der Partikel mit einer Passivierungsschicht (28) versehen wird. Allerdings wird der Passivierungsprozess zur Herstellung der Passivierungsschicht (28) erfindungsgemäß gestoppt, bevor eine durch den Passivierungsprozess erzeugte Passivierungsschicht eine elektrochemische Abscheidung der Partikel verhindern würde. Es handelt sich also lediglich um eine Semipassivierung, die eine anschließende elektrochemische Erzeugung der Partikel (21) noch ermöglicht. Erfindungsgemäß erleichtert die Passivierungsschicht (28) jedoch das Ablösen der Partikel (21) nach erfolgter Herstellung. Damit die Passivierungsschicht (28) nicht vollständig mit dem Material der Partikel (21) bedeckt wird, kann beispielsweise eine Maske (29) verwendet werden, so dass eine Abscheidung des Materials lediglich in den Maskenöffnungen (33) erfolgt.
(EN)The invention relates to a method for electrochemically generating particles (21) on a substrate (11). The particles are electrochemically generated on this structured substrate (11) and separated after generation. According to the invention, the surface of the substrate is provided with a passivation layer (28) before the generation of the particles. However, according to the invention, the passivation process for producing the passivation layer (28) is stopped before a passivation layer generated by the passivation process prevents an electrochemical deposition of the particles. The process is thus merely a semi-passivation process, which still permits a subsequent electrochemical generation of the particles (21). However, according to the invention, the passivation layer (28) facilitates the removal of the particles (21) after production has occurred. In order that the passivation layer (28) is not entirely covered with the material of the particles (21), for example, a mask (29) can be used such that a deposition of the material occurs only in the mask openings (33).
(FR)L’invention concerne un procédé de génération électrochimique de particules (21) sur un substrat (11). Les particules sont générées par voie électrochimique sur ce substrat structuré (11) et sont séparées après la génération. Selon l’invention, la surface du substrat est pourvue d’une couche de passivation (28) avant de générer les particules. Cependant, pour produire la couche de passivation (28), le processus de passivation est arrêté selon l’invention avant qu’une couche de passivation produite par le processus de passivation n’empêche le dépôt électrochimique des particules. Il ne s’agit donc que d’une semi-passivation qui permet encore de générer ensuite par voie électrochimique des particules (21). Cependant, selon l’invention, la couche de passivation (28) facilite le détachement des particules (21) une fois la génération effectuée. Pour que la couche de passivation (28) ne soit pas complètement recouverte par la matière des particules (21), on peut par exemple utiliser un masque (29) de façon à n’effectuer un dépôt de matière que dans les ouvertures (33) du masque.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)