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1. (WO2017167260) DISPOSITIF D'ALIGNEMENT DE MASQUE COAXIAL, APPAREIL DE PHOTOLITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ D'ALIGNEMENT
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N° de publication : WO/2017/167260 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/078939
Date de publication : 05.10.2017 Date de dépôt international : 31.03.2017
CIB :
G03F 9/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
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Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
Déposants :
上海微电子装备(集团)股份有限公司 SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT (GROUP) CO., LTD. [CN/CN]; 中国上海市 张江高科技园区张东路1525号 1525 Zhangdong Road, Zhangjiang High-Tech Park Shanghai 201203, CN
Inventeurs :
张成爽 ZHANG, Chengshuang; CN
Mandataire :
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) SHANGHAI SAVVY INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; 中国上海市 长宁区天山西路789号1幢341室 Room 341, Building 1 789 West Tianshan Road, Changning District Shanghai 200335, CN
Données relatives à la priorité :
201610200702.331.03.2016CN
Titre (EN) COAXIAL MASK ALIGNMENT DEVICE, PHOTOLITHOGRAPHY APPARATUS AND ALIGNMENT METHOD
(FR) DISPOSITIF D'ALIGNEMENT DE MASQUE COAXIAL, APPAREIL DE PHOTOLITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ D'ALIGNEMENT
(ZH) 同轴掩模对准装置、光刻设备及对准方法
Abrégé :
(EN) A coaxial mask alignment device, photolithography apparatus and alignment method. The coaxial mask alignment device comprises: illumination modules (A, B) providing alignment beams; a projection objective (8) located below a mask (5); a reference plate (9) located on a workpiece table (12) and used for carrying a datum reference mark (10); and an image detection and processing module (11) located below the reference plate (9) and moving with the workpiece table (12), and the datum reference mark (10) being located within the field of view of the image detection and processing module (11). The detection and processing module (11) is used to receive an alignment beam which sequentially passes through mask alignment marks (6, 7), the projection objective (8) and the datum reference mark (10), so as to obtain images of the mask alignment marks (6, 7) and the datum reference mark (10), and to obtain relative position information of the mask alignment marks (6, 7) and the datum reference mark (10) by processing said images, thus aligning the mask (5) and the workpiece table (12). The coaxial mask alignment device adopts independent lighting, a simple structure and convenient operations, thereby improving alignment efficiency.
(FR) L'invention concerne un dispositif d'alignement de masque coaxial, un appareil de photolithographie et un procédé d'alignement. Le dispositif d'alignement de masque coaxial comprend : des modules d'éclairage (A, B) fournissant des faisceaux d'alignement; un objectif de projection (8) situé en dessous d'un masque (5); une plaque de référence (9) située sur une table de pièce à travailler (12) et utilisée pour transporter un repère de référence de donnée (10); un module de détection et de traitement d'image (11) situé en dessous de la plaque de référence (9) et se déplaçant avec la table de pièce à travailler (12), le repère de référence de donnée (10) étant situé dans le champ de vision du module de détection et de traitement d'image (11). Le module de détection et de traitement (11) est utilisé pour recevoir un faisceau d'alignement qui passe séquentiellement à travers des repères d'alignement de masque (6, 7), l'objectif de projection (8) et le repère de référence de donnée (10), de façon à obtenir des images des repères d'alignement de masque (6, 7) et du repère de référence de donnée (10), et à obtenir les informations de position relative des repères d'alignement de masque (6, 7) et du repère de référence de donnée (10) par traitement desdites images, alignant ainsi le masque (5) et la table de pièce à travailler (12). Le dispositif d'alignement de masque coaxial adopte un éclairage indépendant, une structure simple et des opérations pratiques, améliorant ainsi l'efficacité d'alignement.
(ZH) 一种同轴掩模对准装置、光刻设备及对准方法。同轴掩模对准装置包括照明模块(A,B),提供对准光束;投影物镜(8),位于掩模版(5)下方;基准板(9),位于工件台(12)上,承载基准参考标记(10);以及图像探测和处理模块(11),位于基准板(9)下方,随着工件台(12)移动,且基准参考标记(10)位于图像探测和处理模块(11)的视场范围内,图像探测和处理模块(11)用于接收依次经过掩模对准标记(6,7)、投影物镜(8)及基准参考标记(10)的对准光束,得到掩模对准标记(6,7)与基准参考标记(10)的成像,经过处理后得到掩模对准标记(6,7)与基准参考标记(10)的相对位置信息,用于掩模版(5)与工件台(12)对准。同轴掩模对准装置采用自带独立式照明,结构简单,操作便捷,提高了对准效率。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)