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1. (WO2017167258) APPAREIL ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION PAR PROJECTION

Pub. No.:    WO/2017/167258    International Application No.:    PCT/CN2017/078934
Publication Date: Fri Oct 06 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Sat Apr 01 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 7/20
G03F 9/00
H01L 21/027
Applicants: SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT (GROUP) CO., LTD.
上海微电子装备(集团)股份有限公司
Inventors: CHEN, Yuefei
陈跃飞
Title: APPAREIL ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION PAR PROJECTION
Abstract:
L'invention concerne un appareil d'exposition par projection ; un système de mesure de plan focal (8) et un système de mesure d'alignement (9) sont disposés entre une plate-forme de masque (3) et une plate-forme de travail (4), le système de mesure d'alignement (9) ayant une fonction d'ajustement focal ; une fois que le changement de surface d'un substrat (5) a été mesuré au moyen du système de mesure de plan focal (8), le système de mesure d'alignement (9) met en œuvre un ajustement focal sur la base des données de mesure du système de mesure de plan focal (8) ; une fois que l'ajustement focal a été terminé, les coordonnées des points sur le substrat (5) affichés dans le système de mesure d'alignement (8) sont les coordonnées des points après le changement de surface du substrat (5) ; en calculant les changements de coordonnées des points, la relation de position relative d'une plaque de masque (2) et du substrat (5) ayant subi le changement de surface peut être obtenue, et une compensation peut être mise en œuvre en déplaçant la plate-forme de travail (4). Ainsi, même si les mesures de plan focal du système de mesure d'alignement (9) et du système de mesure de plan focal (8) sont différentes, l'erreur peut être compensée par un calcul et un ajustement focal. L'invention concerne également un procédé d'exposition pour un appareil de projection.