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1. (WO2017147185) COPOLYMÈRES SÉQUENCÉS POUR STRUCTURATION EN DESSOUS DE 10 NM
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N° de publication : WO/2017/147185 N° de la demande internationale : PCT/US2017/018944
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 22.02.2017
CIB :
C08F 299/02 (2006.01) ,C08F 224/00 (2006.01) ,C08F 230/08 (2006.01) ,B32B 27/28 (2006.01)
Déposants : BOARD OF REGENTS THE UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM[US/US]; 201 W. 7th Street Austin, TX 78701, US
Inventeurs : WILLSON, Carlton, Grant; US
BLACHUT, Gregory; US
MAHER, Michael; US
ASANO, Yusuke; US
ELLISON, Christopher, John; US
Mandataire : HOWERTON, Thomas, C.; US
HAMDAN, Maha, A.; US
CARROLL, Peter, G.; US
KELLY, Gilbert, Thomson; US
Données relatives à la priorité :
62/298,62823.02.2016US
Titre (EN) BLOCK COPOLYMERS FOR SUB-10 NM PATTERNING
(FR) COPOLYMÈRES SÉQUENCÉS POUR STRUCTURATION EN DESSOUS DE 10 NM
Abrégé : front page image
(EN) The present invention relates to a method for the synthesis and utilization of block copolymer can that form sub-10 nm lamella nanostructures. Such methods have many uses including multiple applications in the semiconductor industry including production of templates for nanoimprint lithography.
(FR) La présente invention concerne un procédé pour la synthèse et l'utilisation de copolymères séquencés qui forment des nanostructures lamellaires de moins de 10 nm. Ces procédés ont de nombreuses utilisations, notamment de multiples applications dans l'industrie des semiconducteurs, y compris la production de matrices pour la lithographie par nano-impression.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)