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1. (WO2017146945) ARTICLE REVÊTU COMPRENANT UNE/DES COUCHE(S) D'ÎLOTS MÉTALLIQUES FORMÉE(S) PAR RÉGULATION DE LA TEMPÉRATURE ET/OU PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/146945    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/017856
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 15.02.2017
CIB :
C03C 17/00 (2006.01), C03C 17/09 (2006.01), C03C 17/36 (2006.01), C03C 23/00 (2006.01), G02B 5/00 (2006.01), G02B 5/18 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01)
Déposants : GUARDIAN GLASS, LLC [US/US]; 2300 Harmon Road Auburn Hill, MI 48326-1714 (US)
Inventeurs : BOYCE, Brent; (US).
LU, Yiwei; (US)
Mandataire : RHOA, Joseph, A.; (US)
Données relatives à la priorité :
15/051,900 24.02.2016 US
Titre (EN) COATED ARTICLE INCLUDING METAL ISLAND LAYER(S) FORMED USING TEMPERATURE CONTROL, AND/OR METHOD OF MAKING THE SAME
(FR) ARTICLE REVÊTU COMPRENANT UNE/DES COUCHE(S) D'ÎLOTS MÉTALLIQUES FORMÉE(S) PAR RÉGULATION DE LA TEMPÉRATURE ET/OU PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
Abrégé : front page image
(EN)Certain example embodiments relate to techniques for improving the uniformity of, and/or conformance to a desired pattern for, metal island layers (MILs) formed on a substrate (e.g., a glass or other substrate), and/or associated products. Certain example embodiments form MILs using a laser or other energy source or magnetic field assisted technique, e.g., to compensate for non- uniformities that otherwise likely would result in the MIL diverging from its desired configuration. For example, a laser or other energy source may introduce heat onto a substrate, enable pulsed laser deposition, raster a target including the MIL metal to be deposited, raster a substrate where the MIL is to be formed, etc. These and/or other techniques may be used to enable the MIL to be formed on the substrate in a desired pattern, e.g., by compensating for implicit non-uniformities of the substrate and/or by selectively creating non- uniformities in how the MIL is formed.
(FR)Certains exemples de modes de réalisation concernent des techniques permettant d'améliorer l'uniformité de couches d'îlots métalliques (MIL) formée(s) sur un substrat (par exemple, un verre ou un autre substrat) et/ou leur conformité à une configuration désirée, et/ou des produits associés. Certains exemples de modes de réalisation forment des couches MIL au moyen d'un laser ou d'une autre source d'énergie ou d'une technique assistée par champ magnétique, par exemple pour compenser les non uniformités qui sinon entraîneraient probablement une divergence des MIL de leur configuration souhaitée. Par exemple, un laser ou une autre source d'énergie peut introduire de la chaleur sur un substrat, permettre le dépôt par laser pulsé, former une trame sur une cible comprenant le métal de MIL à déposer, former une trame sur un substrat où la couche MIL doit être formée, etc. Ces techniques et/ou d'autres techniques peuvent être utilisées pour permettre la formation de la couche MIL sur le substrat selon un motif souhaité, par exemple, par compensation de non-uniformités implicites du substrat et/ou par création sélective de non-uniformités dans la manière dont la couche MIL est formée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)