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1. (WO2017146909) SOURCE DE PLASMA À COUPLAGE INDUCTIF POLYPHASÉE

Pub. No.:    WO/2017/146909    International Application No.:    PCT/US2017/017161
Publication Date: Fri Sep 01 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Fri Feb 10 00:59:59 CET 2017
IPC: H01J 37/32
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED
TOKYO ELECTRON U.S. HOLDINGS, INC.
Inventors: BRCKA, Jozef
Title: SOURCE DE PLASMA À COUPLAGE INDUCTIF POLYPHASÉE
Abstract:
L’invention concerne des modes de réalisation de systèmes et de procédés relatifs à une source de plasma à couplage inductif polyphasée. Dans un mode de réalisation, un système peut comprendre une source métallique configurée pour fournir un métal pour le dépôt physique en phase vapeur ionisée sur un substrat, dans une chambre de traitement. Le système peut également comprendre une source de plasma haute densité configurée pour générer un plasma dense, la source de plasma haute densité comprenant une pluralité d’antennes à couplage inductif. De plus, le système peut comprendre une source de polarisation de substrat configurée pour fournir le potentiel nécessaire pour thermaliser et ioniser le plasma. Dans ces modes de réalisation, chaque antenne est configurée pour recevoir de l’énergie avec une orientation de phase déterminée, selon un agencement de phases.