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1. (WO2017146879) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT INTER-CHAMBRES
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N° de publication : WO/2017/146879 N° de la demande internationale : PCT/US2017/015852
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 31.01.2017
CIB :
H01L 21/02 (2006.01) ,H01L 21/205 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01) ,H01L 21/20 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC.[US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs : BAO, Xinyu; US
SANCHEZ, Errol Antonio C.; US
YE, Zhiyuan; US
BAN, Keun-Yong; US
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; US
TACKETT, Keith M.; US
Données relatives à la priorité :
15/055,16426.02.2016US
Titre (EN) METHOD FOR INTER-CHAMBER PROCESS
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT INTER-CHAMBRES
Abrégé : front page image
(EN) Embodiments described herein generally relate to a substrate processing system, such as an etch processing system. In one embodiment, a method of processing a substrate is disclosed herein. The method includes removing a native oxide from a surface of the substrate, baking the substrate in a pre-treatment thermal chamber such that double atomic steps are formed on the surface of the substrate, and forming an epitaxial layer on the substrate after the substrate is baked.
(FR) Selon divers modes de réalisation, l'invention concerne de manière générale un système de traitement de substrat, tel qu'un système de traitement de gravure. Dans un mode de réalisation, un procédé de traitement d'un substrat est décrit. Le procédé comprend l'élimination d'un oxyde natif d'une surface du substrat, la cuisson du substrat dans une chambre de prétraitement thermique de manière à former des doubles marches atomiques sur la surface du substrat, et la formation d'une couche épitaxiale sur le substrat après cuisson du substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)