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1. (WO2017146786) ANALYSE DES CAUSES PROFONDES DE LA VARIATION D’UN PROCÉDÉ EN MÉTROLOGIE PAR DIFFUSIOMÉTRIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/146786    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/059954
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 01.11.2016
CIB :
G01J 3/28 (2006.01), G01J 3/40 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, CA 95035 (US)
Inventeurs : MARCIANO, Tal; (IL).
ADEL, Michael, E.; (IL).
GHINOVKER, Mark; (IL).
BRINGOLTZ, Barak; (IL).
KLEIN, Dana; (IL).
ITZKOVICH, Tal; (IL).
RAMANATHAN, Vidya; (US).
CAMP, Janay; (US)
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; (US).
MORRIS, Elizabeth M., N.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/299,693 25.02.2016 US
Titre (EN) ANALYZING ROOT CAUSES OF PROCESS VARIATION IN SCATTEROMETRY METROLOGY
(FR) ANALYSE DES CAUSES PROFONDES DE LA VARIATION D’UN PROCÉDÉ EN MÉTROLOGIE PAR DIFFUSIOMÉTRIE
Abrégé : front page image
(EN)Method, metrology modules and RCA tool are provided, which use the behavior of resonance region(s) in measurement landscapes to evaluate and characterize process variation with respect to symmetric and asymmetric factors, and provide root cause analysis of the process variation with respect to process steps. Simulations of modeled stacks with different layer thicknesses and process variation factors may be used to enhance the analysis and provide improved target designs, improved algorithms and correctables for metrology measurements. Specific targets that exhibit sensitive resonance regions may be utilize to enhance the evaluation of process variation.
(FR)La présente invention concerne un procédé, des modules de métrologie et un outil de RCA qui utilisent le comportement d'une ou de plusieurs région de résonance de paysages de mesure pour évaluer et caractériser les variations d'un procédé par rapport à des facteurs de symétrie et d'asymétrie, et qui fournissent une analyse des causes profondes de la variation du procédé par rapport aux étapes du procédé. Des simulations d'empilements modélisés présentant différentes épaisseurs de couche et différents facteurs de variation de procédé peuvent être utilisées pour améliorer l'analyse et fournir de meilleures conceptions de cibles, de meilleurs algorithmes et des correctifs pour des mesures de métrologie. Des cibles spécifiques présentant des régions de résonance sensibles peuvent être utilisées pour améliorer l'évaluation de la variation d'un procédé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)