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1. (WO2017146735) FENÊTRE D’UN TAMPON DE POLISSAGE MINCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2017/146735 N° de la demande internationale : PCT/US2016/019916
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 26.02.2016
CIB :
H01L 21/304 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04
les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18
les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du quatrième groupe de la Classification Périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30
Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
302
pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p.ex. gravure, polissage, découpage
304
Traitement mécanique, p.ex. meulage, polissage, coupe
Déposants :
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
HU, Yongqi; US
NARENDRNATH, Kadthala Ramaya; US
TERRY, Thomas Lawrence; US
Mandataire :
GOREN, David J.; US
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) WINDOW IN THIN POLISHING PAD
(FR) FENÊTRE D’UN TAMPON DE POLISSAGE MINCE
Abrégé :
(EN) A polishing pad includes a polishing layer stack that has a polishing surface, a bottom surface, and an aperture from the polishing surface to the bottom surface. The polishing layer stack includes a polishing layer that has the polishing surface. A fluid- impermeable layer spans the aperture and the polishing pad. A first adhesive layer of a first adhesive material is in contact with and secures the bottom surface of the polishing layer to the fluid-impermeable layer. The first adhesive layer spans the aperture and the polishing pad. The light-transmitting body is positioned in the aperture and has a lower surface in contact with, is secured to the first adhesive layer, and is spaced apart from a side-wall of the aperture by a gap. An adhesive sealant of a different second material is disposed in and laterally fills the gap.
(FR) Un tampon de polissage comprend une pile de couches de polissage présentant une surface de polissage, une surface inférieure et une ouverture pratiquée entre la surface de polissage et la surface inférieure. La pile de couches de polissage comprend une couche de polissage qui comporte la surface de polissage. Une couche imperméable aux fluides s’étend sur l’ouverture et sur le tampon de polissage. Une première couche adhésive d’un premier matériau adhésif est en contact avec la surface inférieure de la couche de polissage et fixe cette surface sur la couche imperméable aux fluides. La première couche adhésive s’étend sur l’ouverture et sur le tampon de polissage. Le corps de transmission de lumière est positionné dans l’ouverture et comporte une surface inférieure en contact avec la première couche adhésive, est fixé sur cette couche et est espacé d’une paroi latérale de l’ouverture par un espace. Un agent d’étanchéité adhésif d’un deuxième matériau différent, est disposé dans l’espace et remplit latéralement celui-ci.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)