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1. (WO2017146677) DISQUES DE CONDITIONNEMENT POUR POLISSAGE MÉCANO-CHIMIQUE
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N° de publication :    WO/2017/146677    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/019005
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 23.02.2016
CIB :
H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, California 95054-1549 (US)
Inventeurs : TREGUB, Alexander; (US).
O'FARRELL, Denis J.; (IE)
Mandataire : ZAGER, Laura A.; (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) CONDITIONING DISKS FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING
(FR) DISQUES DE CONDITIONNEMENT POUR POLISSAGE MÉCANO-CHIMIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed herein are chemical mechanical polishing (CMP) conditioning disks, and related systems and techniques. For example, in some embodiments, a CMP conditioning disk may include: a support; a first pedestal extending from the support, the first pedestal having a first surface roughness (SR); and a second pedestal extending from the support, the second pedestal having a second SR different from the first SR.
(FR)La présente invention concerne des disques de conditionnement pour polissage mécano-chimique (CMP), ainsi que des systèmes et des techniques associés. Par exemple, dans certains modes de réalisation, un disque de conditionnement pour CMP peut comporter : un support; un premier socle qui s'étend à partir du support, le premier socle présentant une première rugosité de surface (SR); et un second socle qui s'étend à partir du support, le second socle présentant une seconde SR différente de la première SR.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)