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1. (WO2017146499) DISPOSITIF DE FORMATION DE NANOSTRUCTURE UTILISANT DES MICRO-ONDES
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N° de publication : WO/2017/146499 N° de la demande internationale : PCT/KR2017/002020
Date de publication : 31.08.2017 Date de dépôt international : 23.02.2017
CIB :
H01L 21/02 (2006.01) ,H01L 21/208 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04
les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18
les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du quatrième groupe de la Classification Périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
20
Dépôt de matériaux semi-conducteurs sur un substrat, p.ex. croissance épitaxiale
208
en utilisant un dépôt liquide
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
Déposants :
인제대학교 산학협력단 INJE UNIVERSITY INDUSTRY-ACADEMIC COOPERATION FOUNDATION [KR/KR]; 경상남도 김해시 인제로 197 197, Inje-ro, Gimhae-si, Gyeongsangnam-do 50834, KR
Inventeurs :
류혁현 RYU, Hyuk Hyun; KR
Mandataire :
김태선 KIM, Tae Sun; KR
Données relatives à la priorité :
10-2016-002214324.02.2016KR
Titre (EN) NANOSTRUCTURE FORMATION DEVICE USING MICROWAVES
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE NANOSTRUCTURE UTILISANT DES MICRO-ONDES
(KO) 마이크로웨이브를 이용한 나노 구조체 형성 장치
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a nanostructure formation device using microwaves and, more specifically, to a novel structure of a nanostructure formation device using microwaves, the device being capable of introducing a solution process factor to a conventional nanostructure formation device using microwaves, so as to stably manufacture a nanostructure by using a microwave while consistently maintaining the concentration of a formation solution and processing conditions when the nanostructure is formed through a solution process.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de formation de nanostructure utilisant des micro-ondes et, plus spécifiquement, une structure innovante d'un dispositif de formation de nanostructure utilisant des micro-ondes, le dispositif étant capable d'introduire un facteur de procédé en solution dans un dispositif classique de formation de nanostructure utilisant des micro-ondes, de façon à fabriquer de façon stable une nanostructure en utilisant des micro-ondes tout en maintenant systématiquement la concentration d'une solution de formation et des conditions de traitement lorsque la nanostructure est formée par un procédé en solution.
(KO) 본 발명은 마이크로웨이브를 이용한 나노 구조체 형성 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 종래 마이크로웨이브를 이용한 나노 구조체 형성 장치에 용액 공정 요소를 도입하여, 용액 공정을 통한 나노 구조체 형성시 형성 용액의 농도 및 공정 조건을 일관되게 유지하면서 마이크로웨이브를 이용하여 나노 구조체를 안정적으로 제조할 수 있는 새로운 구조의 마이크로웨이브를 이용한 나노 구조체 형성 장치에 관한 것이다.
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Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)